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《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》集成電路中硅片使用技術(shù)

2021-08-23 10:30 作者:華林科納  | 我要投稿

書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章:集成電路硅片使用技術(shù)

編號(hào):JFKJ-21-261

作者:炬豐科技

摘要

? 2014年硅作為基片材料將繼續(xù)主導(dǎo)許多集成電路的市場。我們首先回顧晶體拉拔過程如何影響硅的質(zhì)量。然后我們研究如何處理會(huì)影響氧和碳的行為,以及硅片的質(zhì)量如何演變。最后,我們詳述了晶圓片必須滿足的要求傳入的檢驗(yàn)。

哪些基片用于集成電路? ?

? 許多電子元件的集成在一起在20世紀(jì)60年代,同樣的襯底被硅取代,成為鍺襯底基材允許使用平面加工。因?yàn)檫@迄今為止,幾乎所有的集成電路(I.C.)世界是建立在硅基板上的。其中一個(gè)原因是制造大的無位錯(cuò)的可能性。


《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》集成電路中硅片使用技術(shù)的評(píng)論 (共 條)

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