目前，全世界最先進(jìn)的芯片，幾乎都繞不開ASML（阿斯麥）的DUV（深紫外）和EUV（極紫外）光刻機(jī)，但它又貴又難造，那有沒有其他的路可走？實(shí)際上，光刻技術(shù)本身存在多種路線，離產(chǎn)業(yè)最近的，當(dāng)屬納米壓印光刻技術(shù)。 納米壓印光刻技術(shù)是什么？ 1995年，華裔科學(xué)家周郁（Stephen Chou）教授首次提出納米壓印概念，從此揭開了納米壓印制造技術(shù)的研究序幕。納米壓印技術(shù)是當(dāng)今最具前景的納米制造技術(shù)之一，很可能成為未來微納電子與光電子產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)技術(shù)。目前，納米壓印技術(shù)在國際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖（ITRS）中被列為下一代32nm、22nm和16nm節(jié)點(diǎn)光刻技術(shù)的代表之一。國內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備制造商、材料商以及工藝商紛紛開始涉足這一領(lǐng)域，短短25年，已經(jīng)取得很大進(jìn)展。

納米壓印光刻（紫外納米壓?。┡c光學(xué)光刻對(duì)比（來源：佳能官網(wǎng)、果殼硬科技） 納米壓印技術(shù)首先通過接觸式壓印完成圖形的轉(zhuǎn)移，相當(dāng)于光學(xué)曝光技術(shù)中曝光和顯影工藝過程，然后利用刻蝕傳遞工藝將結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到其他任何材料上。它就像蓋章一樣，把柵極長度只有幾納米的電路刻在印章上，再將印章蓋在橡皮泥上，得到與印章相反的圖案，經(jīng)過脫模就能夠得到一顆芯片。在行業(yè)中，這個(gè)章被稱為模板，而橡皮泥則被稱為納米壓印膠。 納米壓印技術(shù)將現(xiàn)代微電子加工工藝融合于印刷技術(shù)中，克服了光學(xué)曝光技術(shù)中光衍射現(xiàn)象造成的分辨率極限問題，展示了超高分辨率、高效率、低成本、適合工業(yè)化生產(chǎn)的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)，從發(fā)明至今，一直受到學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界的高度重視。因此，納米壓印技術(shù)被稱為微納加工領(lǐng)域中第三代最有前景的光刻技術(shù)之一。 納米壓印光刻不僅可以制造分辨率5nm以下的高分辨率圖形，還擁有相對(duì)簡(jiǎn)單的工藝（相比光學(xué)曝光復(fù)雜的系統(tǒng)或電子束曝光復(fù)雜的電磁聚焦系統(tǒng)）、較高的產(chǎn)能（可大面積制造）、較低的成本（國際權(quán)威機(jī)構(gòu)評(píng)估同制作水平的納米壓印比傳統(tǒng)光學(xué)投影光刻至少低一個(gè)數(shù)量級(jí)）、較低的功耗、壓印模板可重復(fù)使用等優(yōu)勢(shì)。 納米壓印的技術(shù)分類 發(fā)展至今，相對(duì)成熟和普遍的納米壓印加工方式包括三類：熱納米壓印、紫外納米壓印和微接觸印刷（軟刻蝕），其他新型工藝多為此三類工藝的改進(jìn)版。其中，紫外納米壓印優(yōu)勢(shì)最為明顯，是目前產(chǎn)業(yè)化最常見的方式，而微接觸納米壓印則主要應(yīng)用在生物化學(xué)領(lǐng)域。 相關(guān)概念股：蘇大維格、 美迪凱、騰景科技、炬光科技、匯創(chuàng)達(dá)、秋田微、歌爾股份、兆馳股份等。