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《炬豐科技-半導體工藝》硫酸/高錳酸鹽凈化工藝

2021-07-23 09:45 作者:華林科納  | 我要投稿

書籍:《炬豐科技-半導體工藝》

文章:硫酸/高錳酸鹽凈化工藝

編號:JFKJ-21-088

作者:炬豐科技


1.適用范圍

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? 1.1在分析多氯聯(lián)苯之前對樣品提取物進行嚴格凈化。當基線升高或色譜圖過于復雜時,應使用此方法來進行 PCB 的準確定量。此方法不能用于凈化其他目標分析物的提取物,因為它會破壞大多數(shù)有機化學物質(zhì),包括殺蟲劑艾氏劑、狄氏劑、異狄氏劑、硫丹以及硫丹硫酸鹽。

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? 1.2此方法僅限于文章全部詳情:壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁由訓練有素的分析師使用或在其監(jiān)督下使用。每個分析員都必須證明有能力使用此方法生成可接受的結(jié)果。

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2.方法總結(jié)

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? 2.1提取物是溶劑交換成正己烷,然后正己烷依次用(1) 濃硫酸,必要時, (2) 5% 高錳酸鉀水溶液。使用這些腐蝕性試劑時必須適當小心。

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? 2.2空白 和重復分析樣品必須與與其相關的樣品進行相同的凈化。

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? 2.3重要的是所有的提取物 在開始以下處理之前,將其交換為己烷。

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?3.干擾

?3.1該技術不會破壞氯化苯、氯化萘和許多氯化農(nóng)藥。

?4.儀器???略

?5.試劑?????略

?6.樣品采集、保存和處理????略

?7.程序?????略

?8.質(zhì)量控制???略

9.方法性能??略

10.參考文獻???略


《炬豐科技-半導體工藝》硫酸/高錳酸鹽凈化工藝的評論 (共 條)

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