創(chuàng)建游戲資源時(shí)，經(jīng)常需要設(shè)置紋理的UV分布。若項(xiàng)目計(jì)劃使用烘焙光照（靜態(tài)或靜止），還需設(shè)置存儲(chǔ)光照信息的UV通道。這種被稱(chēng)為 **光照貼圖UV**與紋理UV類(lèi)似，其由每個(gè)靜態(tài)網(wǎng)格體特有的UV分布圖表（或UV島狀區(qū)）組成，只是此類(lèi)特殊UV用于存儲(chǔ)烘焙光照和陰影信息。與紋理UV不同，光照貼圖上需要有模型所有面的專(zhuān)屬空間，且不可有重疊面，還要確保UV圖表之間足夠填充（或間距），以避免瑕疵。因此，光照貼圖是環(huán)境藝術(shù)創(chuàng)作富有挑戰(zhàn)性的領(lǐng)域之一。

僅在使用烘焙（或預(yù)計(jì)算）光照來(lái)光照靜態(tài)網(wǎng)格體時(shí)，才需要光照貼圖。若游戲或項(xiàng)目只使用動(dòng)態(tài)光照，則無(wú)需設(shè)置所有靜態(tài)網(wǎng)格體的光照貼圖。

創(chuàng)建光照貼圖

創(chuàng)建光照貼圖共兩種：

• 使用虛幻引擎4的光照貼圖自動(dòng)生成工具

• 使用UV編輯工具創(chuàng)建自定義光照貼圖

自動(dòng)生成光照貼圖UV

創(chuàng)建自定義光照貼圖可能比較耗時(shí)，特別是項(xiàng)目需要成千上萬(wàn)的資源時(shí)，將會(huì)相當(dāng)耗時(shí)。自動(dòng)生成光照貼圖是一種快速打包光照貼圖UV的方法，無(wú)需手動(dòng)設(shè)置和正確填充，從而節(jié)省大量時(shí)間。Epic工作流程中已集成該操作進(jìn)程。

導(dǎo)入資源時(shí)，F(xiàn)BX導(dǎo)入選項(xiàng)（FBX Import Options）窗口中將自動(dòng)生成光照貼圖UV（禁用時(shí)除外）。

將基于紋理布局的UV（UV通道0）自動(dòng)生成光照貼圖。生成的光照貼圖UV會(huì)重新打包島狀區(qū)，以便正確滿足良好光照貼圖的要求：無(wú)重疊或包裹島狀區(qū)；島狀區(qū)間有足夠填充，以基于目標(biāo)光照貼圖分辨率限制瑕疵。

生成靜態(tài)網(wǎng)格體的光照貼圖UV后，可利用?細(xì)節(jié)?面板的?生成選項(xiàng)（Build Settings）?中靜態(tài)網(wǎng)格體編輯器的光照貼圖生成（Lightmap Generation）設(shè)置，對(duì)其進(jìn)行調(diào)整。但光照貼圖UV生成后，便無(wú)需修改此類(lèi)設(shè)置。

可隨時(shí)使用此類(lèi)設(shè)置來(lái)生成光照貼圖UV或重新打包現(xiàn)有UV。此工具使用重新打包算法，并基于?源光照貼圖索引（或UV通道）生成光照貼圖，然后將其存儲(chǔ)在?目標(biāo)光照映射貼圖索引?指定的新目錄中。此算法利用指定源光照貼圖索引重新打包UV圖表，但操作時(shí)不會(huì)對(duì)圖表進(jìn)行剪切或分割。創(chuàng)建光照貼圖UV時(shí)請(qǐng)牢記此要點(diǎn)，并利用建模軟件或UV編輯軟件進(jìn)行少許前期工作，只需導(dǎo)入U(xiǎn)E4前分割UV圖表，便能獲得良好結(jié)果。

自定義光照貼圖UV

現(xiàn)在，只需少量工作便可獲得良好結(jié)果，因此對(duì)于導(dǎo)入到UE4中的多數(shù)靜態(tài)網(wǎng)格體而言，將可使用自動(dòng)生成光照貼圖UV。在無(wú)法充分使用自動(dòng)生成UV時(shí)，則需要在建模軟件或UV編輯工具中創(chuàng)建展開(kāi)的自定義光照貼圖。

比起其他資源，自定義光照貼圖更需要注意細(xì)節(jié)，因此根據(jù)UV編輯工具的功能和要?jiǎng)?chuàng)建的資源類(lèi)型的不同，自定義光照貼圖將是理想選擇。如下圖中Autodesk 3ds Max的UV編輯工具，多數(shù)工具都有一系列功能，可以合理且輕松地對(duì)UV圖表進(jìn)行平整、重塑、連接和拆分。此類(lèi)選項(xiàng)在UE4的光照貼圖生成中不可用。

本頁(yè)后期內(nèi)容將講解展開(kāi)UV獲得指定結(jié)果的基礎(chǔ)知識(shí)，此操作進(jìn)程可與自動(dòng)生成光照貼圖結(jié)合。

紋理UV和光照貼圖UV

設(shè)置紋理UV通常需使用不同方法來(lái)分布UV圖表以獲得最好的效果，而非使用處理光照貼圖UV的方法。光照貼圖必須平鋪放置，同時(shí)不可有重疊區(qū)域，每個(gè)UV圖表間還需有足夠填充，確保不會(huì)漏光。設(shè)置紋理UV只受紋理映射之此類(lèi)UV圖表的方式影響，因此無(wú)需此類(lèi)規(guī)定。紋理可平鋪或分配到幾何體的各部分，因此其可以接受重疊甚至包裹的島狀區(qū)。??

以下方建筑立面為例，其共有四面，各面所映射的紋理相同。創(chuàng)建單個(gè)紋理，各面的UV圖表均互相疊加，而非使用各面的UV空間。此操作可促使映射到所有面的單個(gè)紋理的空間得到有效地利用，而無(wú)需因紋素密度較小使用較高分辨率。

放置光照貼圖時(shí)（右圖），所有面都顯示為自身的UV空間，因此可生成正確光照烘焙。某些部分已進(jìn)行分割，與且其他圖表間擁有足夠填充，以確保減少瑕疵或漏光。

連續(xù)UV和填充

使用幾何體連續(xù)（或連接）分組是設(shè)置光照貼圖UV的一種方法。要產(chǎn)生平滑的光照效果，建議將各面合理連接來(lái)代表幾何體。

例如，下方UV圖表將幾何體的所有正面和側(cè)面連接到單個(gè)UV圖表中，而頂部被分隔為單獨(dú)的島狀區(qū)。

展開(kāi)后需在UV圖表間設(shè)置最小數(shù)量的填充，以防止光源和陰影泄漏瑕疵。由于DXT紋理壓縮在4x4的紋素塊上進(jìn)行操作，因此通常需要至少4個(gè)紋素來(lái)避免所有泄漏瑕疵。

若正在設(shè)置填充的自定義光照貼圖，使用以下公式來(lái)決定網(wǎng)格的正確紋素間距：

上述范例的公式使用?64?的分辨率：

UE4使用像素來(lái)進(jìn)行填充，意味著嘗試找到對(duì)齊網(wǎng)格來(lái)手動(dòng)對(duì)齊UV圖表和網(wǎng)格時(shí)，需要每面減去一個(gè)像素。使用自動(dòng)生成光照貼圖UV將使用適當(dāng)填充進(jìn)行打包。

Lightmass已在光照貼圖邊緣進(jìn)行填充，防止在結(jié)合關(guān)卡的光照貼圖紋理圖譜時(shí)泄漏光源和陰影。因此光照貼圖UV的邊緣無(wú)需額外填充這會(huì)導(dǎo)致不必要填充和UV空間浪費(fèi)。

要有效利用UV空間，需將部分UV強(qiáng)制堆疊，，并對(duì)其進(jìn)行縮放以匹配UV空間。

對(duì)于光照結(jié)果，最為重要的是要得到干凈、無(wú)中斷的連續(xù)表面，其次才是處理1:1縮放的問(wèn)題。比例為1:7的光照貼圖擁有有兩倍的覆蓋范圍，即使島狀區(qū)比例不一致，也可產(chǎn)生較好結(jié)果。過(guò)薄但保持1:1比例的區(qū)域無(wú)法得到良好結(jié)果，因此無(wú)法正確進(jìn)行光照。從該范例中還可得到另一要點(diǎn)：負(fù)向內(nèi)切口已被分割（紅色高亮區(qū)域），以防止其共享連續(xù)UV圖表的光照和陰影信息，而平滑的光照結(jié)果對(duì)連續(xù)UV圖表非常重要。

光照貼圖UV范例

以下范例示例將探討簡(jiǎn)單、復(fù)雜和有機(jī)結(jié)構(gòu)幾何體的自定義光照貼圖UV布局。從中可了解得到和保持平滑光照結(jié)果的方法。

簡(jiǎn)單物體

此建筑立面代表簡(jiǎn)單的模塊，該范例良好展示連續(xù)幾何體展開(kāi)時(shí)將反映出自身低多邊形幾何體。

使用連續(xù)面便于最大化UV空間中的覆蓋范圍，可以較低光照貼圖分辨率更好地烘焙光源，獲得近乎完美的光照貼圖。請(qǐng)注意：分割UV圖表未導(dǎo)致接縫和細(xì)小黑線。

復(fù)雜物體

對(duì)于不遵循連續(xù)UV任何經(jīng)典規(guī)則的物體（如擁有眾多幾何體或負(fù)空間但元素極少）而言，，需分割UV圖表并添加更多填充來(lái)防止瑕疵。?

欄桿光照貼圖顯示了將欄桿固定在一起的垂直構(gòu)件的變形（右側(cè)中間圖片）。此類(lèi)構(gòu)件的兩側(cè)和中間部分被強(qiáng)制接合在一起。盡管在UV中發(fā)生了變形，其仍有足夠覆蓋來(lái)生成良好結(jié)果。

欄桿上圓形構(gòu)件的內(nèi)部已被分割為正面和背面，形成各自的連續(xù)島狀區(qū)。玩家可見(jiàn)看到的那面擁有內(nèi)和外兩面，因此四分之三的區(qū)域都可擁有有平滑光照。欄桿的背面在光卡中較難可見(jiàn)，因此是其自身島狀區(qū)。而要獲得良好結(jié)果，最重要的是專(zhuān)注于大部分玩家可見(jiàn)區(qū)域。

有時(shí)，復(fù)雜幾何體可能并非光照貼圖UV的理想工作資源。除中型資源外，其還有增加復(fù)雜性的諸多負(fù)空間。

單獨(dú)元素過(guò)多時(shí)，由于需要填充，可能會(huì)浪費(fèi)大量UV空間。在這種情況下，只能使用較高光照貼圖分辨率來(lái)確保維持質(zhì)量。經(jīng)過(guò)了解，此范例計(jì)劃利用結(jié)合合理UV圖表來(lái)使用較高光照貼圖分辨率，而也能得知其仍然不夠完美。其中會(huì)出現(xiàn)些許泄漏，但尚不足以破壞光照結(jié)果。

根據(jù)內(nèi)存預(yù)算，可使用較高光照貼圖分辨率來(lái)減少瑕疵，但建議盡量使用盡可能低的分辨率來(lái)獲得良好性能和優(yōu)化。此外請(qǐng)牢記：，具有有趣的漫反射和法線紋理的好材質(zhì)可隱藏部分光照貼圖問(wèn)題。

有機(jī)物體

對(duì)于有眾多圓形形狀的幾何體或設(shè)計(jì)更有機(jī)的幾何體而言，建議設(shè)為平面并根據(jù)需要松弛UV。

對(duì)于有機(jī)形狀，需了解拆分幾何體的合理方法，如在自然操作的位置分割UV圖表。進(jìn)行此操作時(shí)的最大問(wèn)題是分割任何邊緣都會(huì)破壞光照結(jié)果的平滑性。因此在該噴泉范例中，將噴泉頂部拆分為上下兩部分，將中間作為其自身，而將底座視為其自身的島狀區(qū)，可良好減少光照烘焙中的可見(jiàn)接縫。在有深凹或裂縫的位置分割光照貼圖UV。

中心柱的UV圖表與其網(wǎng)格體不同，其被拉直，以便更有效地利用UV空間。對(duì)于光照貼圖UV而言，此UV圖表非常理想，可生成良好且平滑的光照結(jié)果。

光照貼圖分辨率的重要性

有效的光照貼圖將盡可能有效地填充UV空間的大部分區(qū)域，以使用最低分辨率來(lái)獲得良好光照結(jié)果。在UV圖表間保持足夠填充的同時(shí)，使用UV空間最大化覆蓋范圍，可緩和多數(shù)光照貼圖造成的問(wèn)題。

編譯桌面平臺(tái)時(shí)項(xiàng)目，可用內(nèi)存預(yù)算通常較高，因此可使用較高分辨率。然而對(duì)于主機(jī)和移動(dòng)平臺(tái)，則需嚴(yán)格控制內(nèi)存預(yù)算。通常會(huì)犧牲部分光照貼圖分辨率，以維持預(yù)算。

根據(jù)幾何體及其復(fù)雜性，可將網(wǎng)格體拆分成較小構(gòu)件，以便所有構(gòu)件都可擁有覆蓋范圍良好的專(zhuān)屬光照貼圖，并在進(jìn)行此操作時(shí)使用較低光照貼圖分辨率。

檢查光照貼圖和設(shè)置

靜態(tài)網(wǎng)格體編輯器

利用靜態(tài)網(wǎng)格編輯器可進(jìn)行檢查附加到靜態(tài)網(wǎng)格體上的UV，生成光照貼圖UV，設(shè)置此網(wǎng)格的光照貼圖紋理分辨率等操作。

啟用UV覆層

使用工具欄中的?UV?下拉菜單選擇要顯示的UV通道。?

選中后UV通道將在靜態(tài)網(wǎng)格編輯器視口中顯示覆層。

當(dāng)前顯示的UV通道表明在覆層之上。

設(shè)置光照貼圖坐標(biāo)索引

光照貼圖坐標(biāo)索引?指定光照貼圖在光照構(gòu)建期間生成光照貼圖紋理時(shí)，此靜態(tài)網(wǎng)格體應(yīng)使用的UV通道。?

在靜態(tài)網(wǎng)格編輯器的?常規(guī)（General）?設(shè)置（Settings）?部分找到?光照貼圖坐標(biāo)索引（Lightmap Coordinate Index）。

導(dǎo)入當(dāng)前具有光照貼圖通道（UV通道1）的靜態(tài)網(wǎng)格體或在導(dǎo)入期間生成光照貼圖時(shí)，UE4會(huì)嘗試將UV通道分配到適當(dāng)位置。若在導(dǎo)入無(wú)光照貼圖UV的靜態(tài)網(wǎng)格體后生成光照貼圖UV，則需為光照貼圖坐標(biāo)索引手動(dòng)分配正確的UV通道。

設(shè)置光照貼圖分辨率

利用?光照貼圖分辨率?可在光照構(gòu)建期間設(shè)置光照貼圖生成的烘焙光照和陰影紋理的默認(rèn)紋理分辨率。此分辨率將用于此靜態(tài)網(wǎng)格體放置在關(guān)卡中的所有實(shí)例。

在靜態(tài)網(wǎng)格編輯器的?常規(guī)設(shè)置?部分下找到?光照貼圖分辨率（Lightmap Resolution）?設(shè)置。

通過(guò)啟用?覆蓋光照貼圖分辨率（Overridden Light Map Res）?并插入分辨率大小，還可覆蓋任何關(guān)卡中靜態(tài)網(wǎng)格體的光照貼圖分辨率。此設(shè)置會(huì)覆蓋此靜態(tài)網(wǎng)格體特定實(shí)例。?

將?光照貼圖分辨率?或?覆蓋光照貼圖分辨率?設(shè)為低于生成的光照貼圖UV所用?最小光照貼圖分辨率的值，構(gòu)建光照后引發(fā)接縫和潛在漏光。此靜態(tài)網(wǎng)格體最低分辨率不應(yīng)低于?最小光照貼圖分辨率，以確保UV圖表之間保持足夠的填充。

關(guān)卡視口

利用?關(guān)卡視口（Level viewport）?可使用不同視圖模式來(lái)檢查光照構(gòu)建和相對(duì)于其他靜態(tài)網(wǎng)格體的光照貼圖分辨率密度。此類(lèi)視圖模式可幫助檢查最終結(jié)果，以及排除光照貼圖和光照構(gòu)建問(wèn)題。?

使用光照貼圖密度視圖模式

利用?光照貼圖密度?視圖模式可基于"理想"（或最大）密度設(shè)置，使用與關(guān)卡中其他靜態(tài)網(wǎng)格體Actor相關(guān)的方格網(wǎng)格，來(lái)顯示指定光照貼圖分辨率的密度。最重要的是在使用烘焙光照時(shí)，在整個(gè)場(chǎng)景中保持均勻密度以獲得一致光照。

通過(guò)使用關(guān)卡視口選擇?視圖模式（View Modes）> 優(yōu)化視圖模式（Optimization Viewmodes）> 光照貼圖密度（Lightmap Density）?即可啟用此視圖。

啟用后顏色網(wǎng)格將基于場(chǎng)景中所有靜態(tài)網(wǎng)格體當(dāng)前的光照貼圖分辨率，對(duì)其進(jìn)行覆蓋。?

下列密度顏色表明關(guān)卡的理想光照貼圖分辨率與關(guān)卡中的靜態(tài)網(wǎng)格體所設(shè)光照?qǐng)D分辨率之間的關(guān)系。?

注意：在?光照貼圖密度?視圖模式下，移動(dòng)性設(shè)為?可移動(dòng)?的靜態(tài)網(wǎng)格體無(wú)需光照貼圖UV或進(jìn)行優(yōu)化，因此會(huì)顯示為棕色。

初始時(shí)的默認(rèn)密度是平均值。根據(jù)游戲紋理預(yù)算，可能需將顏色范圍調(diào)整得更嚴(yán)格或更寬松，以便項(xiàng)目使用此視圖模式。使用?構(gòu)建（Build）> 光照信息（Lighting Info）?下主工具欄中的??光照貼圖密度渲染選項(xiàng)（Lightmap Density Rendering Options）?進(jìn)行設(shè)置。

理想密度

設(shè)置場(chǎng)景物體的理想紋素密度。理想紋素密度顯示為綠色。

最大密度

設(shè)置最大密度，此時(shí)場(chǎng)景的紋素密度會(huì)過(guò)于密集。此紋素密度顯示為紅色。

色階縮放（Color Scale）

使用紋素密度視圖模式時(shí)縮放場(chǎng)景顏色。

灰階縮放（Grayscale Scale）

根據(jù)?理想?和?最大?密度值縮放場(chǎng)景灰階因子的亮度。

渲染灰階（Render Grayscale）

啟用光照貼圖密度視圖模式的灰階功能。

純光照視圖模式

在無(wú)材質(zhì)紋理信息的情況下，利用?純光照?視圖模式來(lái)檢查場(chǎng)景中的光照十分有用。查看光照構(gòu)建效果時(shí)此模式也極其有用。?

使用此視圖模式和錯(cuò)誤著色可將場(chǎng)景中因重疊或打包UV而導(dǎo)致的光照貼圖錯(cuò)誤可視化。

場(chǎng)景設(shè)置

場(chǎng)景設(shè)置?面板包含目前加載關(guān)卡的專(zhuān)屬設(shè)置，其內(nèi)含光照貼圖的其他專(zhuān)屬設(shè)置，如選擇是否壓縮來(lái)節(jié)約內(nèi)存、設(shè)置存儲(chǔ)光照貼圖的打包紋理圖譜的最大尺寸，及獲取為此關(guān)卡生成的打包光照貼圖紋理。

壓縮光照貼圖

默認(rèn)情況下，UE4已將壓縮生成的光照貼圖紋理進(jìn)行壓縮優(yōu)化。未勾選?壓縮光照貼圖（Compress Lightmaps）?時(shí)，打包光照貼圖紋理圖譜將不使用壓縮。此操作會(huì)極大增加（四倍）內(nèi)存的使用率，但可減少壓縮算法導(dǎo)致的瑕疵。

針對(duì)不使用法線貼圖的表面，壓縮瑕疵對(duì)于打包到紋理圖譜中的較小光照貼圖是可見(jiàn)的。利用良好的紋理和法線貼圖，可提高烘焙光照結(jié)果。對(duì)于要提高光照貼圖分辨率的問(wèn)題光照貼圖UV，需重新處理UV圖表，以在UV空間中額外覆蓋范圍，以便改進(jìn)此類(lèi)壓縮瑕疵。

直接光照區(qū)域

高對(duì)比度直接光照區(qū)域中的壓縮瑕疵較易發(fā)現(xiàn)。禁用壓縮后光照貼圖結(jié)果將更加平滑且無(wú)斑點(diǎn)，但此操作開(kāi)銷(xiāo)更高。

間接光照區(qū)域

間接光照區(qū)域中的壓縮瑕疵不太明顯。壓縮被禁用時(shí)結(jié)果會(huì)更平滑，而應(yīng)用紋理和法線貼圖時(shí)后會(huì)變得不太明顯。

提高光照貼圖分辨率的直接光照區(qū)域

墻壁底部（地板立柱之間的中央）的裝飾網(wǎng)格體光照貼圖分辨率已被提高，以展示類(lèi)似效果，可通過(guò)直接提高光照貼圖分辨率達(dá)到該效果，而無(wú)需禁用壓縮。將最初光照貼圖分辨率提高一倍，可消除多數(shù)瑕疵，并且這樣微小的變動(dòng)幾乎不會(huì)占用紋理內(nèi)存。

打包光源和陰影貼圖紋理大小

為單個(gè)Actor生成關(guān)卡的光照貼圖時(shí)，其將被打包并存儲(chǔ)到多個(gè)紋理圖譜中。逐Actor加載單獨(dú)光照貼圖紋理十分抵低效，而持續(xù)進(jìn)行加載和卸載將增加GPU的工作負(fù)擔(dān)。

關(guān)卡中使用的靜態(tài)網(wǎng)格體Actor數(shù)量及其光照貼圖分辨率將決定要使用的紋理圖譜數(shù)量。較大光照貼圖分辨率會(huì)增加其在圖譜中使用的空間量。將?打包光源和陰影貼圖紋理大小?設(shè)為2的冪值（512、1024、2048或4096），即可調(diào)整紋理圖譜的大小。

故障排除和優(yōu)化

錯(cuò)誤著色

通過(guò)在發(fā)生錯(cuò)誤的光照貼圖中覆蓋顏色，錯(cuò)誤著色?可在?貼圖檢測(cè)?下的?消息日志?中顯示光照構(gòu)建后發(fā)生的錯(cuò)誤。

啟用?使用錯(cuò)誤著色?后，須將?光照質(zhì)量?設(shè)為?中等（Medium）或?預(yù)覽（Preview）?以可視化結(jié)果。

使用?純光照?視圖模式更易找到此類(lèi)問(wèn)題。

重疊光照貼圖UV

重疊光照貼圖UV（Overlapping Lightmap UV）警告表明在光照貼圖的UV空間中，UV圖表正與幾何體的其他部分發(fā)生重疊。所有UV用于光照貼圖時(shí)，須在UV中擁有自身空間。錯(cuò)誤著色會(huì)覆蓋此類(lèi)UV圖表的橙色。請(qǐng)注意：紋理UV無(wú)需遵守該規(guī)則。

包裹UV

包裹UV（Wrapping UV）?警告表明UV圖表位于0-1 UV空間之外。錯(cuò)誤著色覆蓋此類(lèi)UV圖表的綠色。

統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)窗口

統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)（Statistics）?窗口包含當(dāng)前加載關(guān)卡中光照、紋理和基元的眾多有用數(shù)據(jù)。此處諸多數(shù)據(jù)都需要光照構(gòu)建方能有效。

要打開(kāi)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)窗口，使用文件菜單選擇?編輯> 統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)（Edit > Statistics）。

使用左上角的下拉菜單選擇要顯示的數(shù)據(jù)類(lèi)型。

光照構(gòu)建信息

光照構(gòu)建信息?顯示當(dāng)前加載關(guān)卡中的Actor排序列表，以及其計(jì)算每個(gè)Actor光照的方法。利用此列表可追蹤計(jì)算光照所需時(shí)間較長(zhǎng)的問(wèn)題網(wǎng)格體。例如，高光照貼圖分辨率或場(chǎng)景中與Actor交互的光源數(shù)量較多會(huì)增加光照計(jì)算時(shí)間。

靜態(tài)網(wǎng)格體光照信息

靜態(tài)網(wǎng)格體光照信息?顯示了當(dāng)前加載關(guān)卡中的Actor排序列表及其光照貼圖信息。利用此列表可快速識(shí)別Actor的光照貼圖分辨率及其要使用的紋理內(nèi)存。