書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章：光刻膠剝離組合物和清洗組合物

編號(hào)：JFKJ-21-340

作者：炬豐科技

發(fā)明所屬之技術(shù)領(lǐng)域

光阻已經(jīng)被使用在廣泛范圍的影像技術(shù)生產(chǎn)中，其裝置包括如LC及LSI之積體電路、如LCD及EL裝置之顯示裝置、印刷電路板、微形機(jī)械、DNA及微裝置及微形工廠。特別地，本發(fā)明系關(guān)于從負(fù)載有光阻之各種目的除去光阻之光阻掠物。

本發(fā)明已經(jīng)有其及親核性之胺化合物被使用來(lái)淸潔積體電路、液晶顯示裝置及應(yīng)用在該等裝置上的最光阻。于該等目的中之一種、一種胺化合物、其制造方法淸組成物及一種包括該胺化合物之光攔截組件。

先前技術(shù)

日本專利應(yīng)用新案揭開(kāi)真相是無(wú)該等反例并能有效地強(qiáng)伊朗甲基胺安定，但理來(lái)，已由各種材料來(lái)生產(chǎn)用裝置之半導(dǎo)體裝置，其需求料之光阻掩蔽物。

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發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是在于解決，并提供一種光阻破壞能夠輕松地除去引物上的光在緊接于藍(lán)色的去灰后之光于提供一種光阻破壞物的條件下。

發(fā)明摘要

本發(fā)明的光刻膠剝離組合物含有至少一種由下式1表示的羥甲胺化合物