書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章：制造 CMOS集成電路

編號(hào)：JFSJ-21-032

作者：炬豐科技

網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html

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大綱：

一、CMOS制造工藝概述

二、CMOS制造工藝流程

三、設(shè)計(jì)規(guī)則

CMOS制造：

1.CMOS晶體管是在硅片上制造的

2.光刻工藝 類似于印刷機(jī)

3.在每一步，不同的材料被沉積或 蝕刻

4.通過在簡(jiǎn)化的制造過程中查看晶圓的頂部和橫截面，最容易理解

逆變器截面：

1.通常 nMOS晶體管使用p型襯底

2.需要 n 阱作為 pMOS 晶體管的主體文章全部詳情，請(qǐng)加V獲?。篽lknch?/ xzl1019

出色地和基板絲錐：

1.襯底必須連接到 GND，n 阱連接到 VDD

2.金屬到輕摻雜半導(dǎo)體形成不良 稱為肖特基二極管的連接

3.使用重?fù)诫s阱和襯底觸點(diǎn)/分接頭

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