??顯影過程中正膠薄膜結(jié)構(gòu)的形成是通過溶解曝光區(qū)域，而負膠顯影去除的是未曝光的區(qū)域，對于可重復的結(jié)果，溫度范圍在21-23℃誤差±0.5°保持。常見的顯影方式有：浸沒式、噴淋式和攪拌式三種。

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? 最佳顯影的時間取決于光刻膠類型、膠厚、曝光波長、烘烤溫度和顯影的工序，對膜厚小于2um顯影時間不大于2min，例如對于浸沒或攪動顯影的時間范圍在20-60s，不要超過120s。膜厚超過10um的膠層需要2-10min，膜厚達到100um的膠厚，顯影時間超過60min，更密集的噴淋式顯影要求的時間更短。

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? 參數(shù)比和敏感度是通過顯影液在去離子水中的濃度來確定的。

注：非金屬離子顯影液比緩沖體系的對稀釋更加敏感，這種顯影液應該在使用前立即完全稀釋，為了保證結(jié)果的可重復性，如果可能的話請使用天平。

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? 高濃度顯影液：形式上的結(jié)果是增加正膠顯影液系統(tǒng)的光靈敏度，要求減小曝光能量，減小顯影時間，考慮到獲得更好的產(chǎn)出率，可能會產(chǎn)生一些不利的影響殘膜率以及（在某些條件下） 工藝穩(wěn)定性低（太快）。負膠要求更高的曝光劑量和更高的顯影液濃度。

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? 低濃度顯影液：提高正膠薄膜獲得更高的對比度，減小未曝光區(qū)域的腐蝕或者只有部分曝光截面區(qū)域有更長的顯影時間。這是一種有著特別高的選擇性的工作方法，能確保更好的細節(jié)表現(xiàn)。

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? 浸沒式顯影受工藝產(chǎn)出率和從空氣中吸入的CO2等條件的限制。工藝產(chǎn)出率取決于部分曝光區(qū)域。CO2的吸入也由于頻繁打開顯影液瓶子導致顯影速率的下降，這個影響可通過將顯影浴表面置于氮氣下來避免。

沖洗/定影

? 顯影完成后應將襯底立即用去離子水沖洗（對應于水溶性堿性顯影液），對于使用有機溶劑作為顯影液的光刻膠，通常選擇對應的定影液將殘留的顯影液沖洗干凈，以避免殘余的顯影液繼續(xù)腐蝕光刻膠。

針對客戶不同的需求，華林科納CSE研發(fā)了新型六工位旋轉(zhuǎn)顯影機。

占地面積為1400×1400×2100(L×W×H)。設備放置在地坪上。

清洗零件最大質(zhì)量：50Kg/件

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清洗工藝流程:人工上料→顯影1→顯影2→顯影3→顯影4→顯影5→人工下料

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設計特點

?設有人機觸摸屏控制，方便人工操作、數(shù)據(jù)調(diào)節(jié)和產(chǎn)量記錄、節(jié)拍記錄調(diào)節(jié)。

?采用專用工裝，設計為可拆卸式。

?工裝的支撐部位采用不銹鋼構(gòu)件，和工件接觸部位采用PFA花籃，防止碰傷工件。

?設備采用全自動控制運行，工藝的時間可自由調(diào)節(jié)。

?設備設有多個緊急停止按扭，防止出現(xiàn)特別事件的非常停機。

?從使用安全方面考慮，設備內(nèi)部使用380V、220V電壓控制，人工操作部分一律使用24V安全電壓！

?顯影腔室尺寸：300×320×260（L×W×Hmm）（以實際設計尺寸為準）。在槽內(nèi)按裝硅片擋塊 140*75*10（L×W×Hmm）（螺絲固定在槽體并可調(diào)節(jié)距離）增加刻度尺，方便加液

?設備前中部封板固定方式按裝，左右后部封板采用移門方式按裝并在最外面的門板上裝有把手，設備底部封板采用雙開門按裝。

?作業(yè)過程使用時間控制，工作流程1，上料，旋轉(zhuǎn)工位 下降（傳感器按制） 拋動（時間控制）浸泡（工作時間可以設定)：上升（傳感器）旋轉(zhuǎn)工位（完成一次作業(yè)，并計數(shù)一次）

?電器和氣動元件的選用需滿足SDS/D000093-2000《新訂設備常用技術(shù)標的有關(guān)規(guī)定》；

?主電控柜采用外部斷電式空開，以增強設備使用安全。

?配有獨立的配電柜，電路方面進行功能分塊強電、弱電分塊，以便維護。（電柜與主機隔房放置，中間線長10米，控制線采用航插聯(lián)接。電機與控制線在電柜內(nèi)聯(lián)接。

?設備的主機、附件及所有附屬設施應采取設備安全防護措施，具有意外斷氣、斷電維持工作構(gòu)件正確位置等安全保護措施及裝置。

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