光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。

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光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。

光刻膠Lift off KXN 5735-LO/LOL2000/3000/ROL-7133系列 負性光刻膠

光刻膠SU-8 100

光刻膠SU-8 2050

電子束光刻膠PMMA電子束 正性

電子束光刻膠SU-8 GM1010電子束 負性

電子束光刻膠HSQ電子束 負性

PAG改性SU8光刻膠

EM阻劑/光刻膠/電子束抗蝕劑

納米壓印光刻膠MR-I T85系列

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瑞禧WFF.2022.6