吳漢明是誰？中國工程院院士，中芯國際集成電路制造有限公司技術(shù)研發(fā)副總裁，湖北大學(xué)微電子學(xué)院名譽院長。他的這句話如果是從茅臺院士嘴里講出來，我一定噴得他狗血噴頭。不過從一個微電子工藝專家嘴里講出來，似乎可信度比較高。

但是我還是帶著將信將疑的想法。吳漢明院士在美國做過博士后，去過英特爾公司。期間在90年代初回國，可是沒待多久就又跑去美國。顯然當(dāng)時中國的科技環(huán)境容不下他。2001年開始一直在中芯國際工作。以他的經(jīng)歷，似乎不會說出荒腔走板的話出來。

果然，深扒了一下他的其他發(fā)言，我發(fā)現(xiàn)是媒體在斷章取義！根據(jù)吳漢明院士的觀點，研發(fā)光刻機不能成為唯一目標(biāo)，打造半導(dǎo)體的完整產(chǎn)業(yè)鏈才是核心。去追求7nm芯片生產(chǎn)線，倒不如把精力放在雖然落后，但是完全國產(chǎn)化的55nm工藝上。這才是吳漢明院士講話的初衷。他其實是站在更高的地方，放眼整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。

目前在整個光刻機技術(shù)里，荷蘭、英國占32%，美國占27%，德國占14%，日本占27%。這么多的關(guān)鍵技術(shù)，靠一個國家或地區(qū)很難做出一個光刻機。所以吳院士講的話確實沒錯。

但是，假如中國只取代美國的27%，建造一個沒有美國技術(shù)的光刻機難道也沒有可能嗎？我覺得也是有可能的。

最近一些時間，關(guān)于中國的企業(yè)研發(fā)出芯片相關(guān)技術(shù)的消息很多。比如4月就有光刻膠方面的消息，濱州光刻膠生產(chǎn)園區(qū)正式交付使用。5月山東淄博某企業(yè)突破了國外在蝕刻金屬引線框架方面的技術(shù)壟斷，成功研制出國產(chǎn)替代品。

華為的光芯片工廠也快建成了。EDA軟件方面，華為開發(fā)的純國產(chǎn)軟件也在路上。就在昨天，華為剛曝光出一個半導(dǎo)體封裝專利，之前華為也曾不斷爆出一些芯片光刻方面專利等等。

如果中國首先在40-55nm制程實現(xiàn)完全國產(chǎn)化，或者去美國化，那對于美國的科技封鎖政策來說，也是一個沉重的打擊！我覺得這個目標(biāo)1-2年可能就能達成！14nm以下的目標(biāo)我覺得可能還得5年以上！ 大家覺得還得多少年實現(xiàn)呢？