超高純硫酸行業(yè)發(fā)展總體概況

超高純試劑，主要用于硅晶片的清洗和蝕刻，可有效除去晶片上的雜質顆粒、無機殘留物和碳沉積物。隨著集成電路（IC）向大規(guī)模和超大規(guī)模、極大規(guī)模的發(fā)展，芯片集成度越來高，晶圓表面的光刻線條越來越精細，IC的更新?lián)Q代速度越來越快，對硫酸的品質要求也越來越嚴格。

隨著電子元器件制作要求的提高，相關行業(yè)應用對濕電子化學品純度的要求也不斷提高。為了適應電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術水平不斷提高的趨勢，并規(guī)范世界超凈高純試劑的標準，國際半導體設備與材料組織（SEMI）將濕電子化學品按金屬雜質、控制粒徑、顆粒個數(shù)和應用范圍等指標制定國際等級分類標準。濕電子化學品在各應用領域的產(chǎn)品標準有所不同，光伏太陽能電池領域一般只需要?G1?級水平；平板顯示和?LED?領域對濕電子化學品的等級要求為?G2、G3?水平；半導體領域中，集成電路用濕電子化學品的純度要求較高，基本集中在?G3、G4?水平，分立器件對濕電子化學品純度的要求低于集成電路，基本集中在?G2?級水平。一般認為，產(chǎn)生集成電路斷絲、短路等物理性故障的雜質分子大小為最小線寬的?1/10。因此隨著集成電路電線寬的尺寸減少，對工藝中所需的濕電子化學品純度的要求也不斷提高。從技術趨勢上看，滿足納米級集成電路加工需求是超凈高純試劑今后發(fā)展方向之一。

超高純硫酸是從普通級硫酸中提純。目前，電子級硫酸的核心技術已被德國，日本，美國等國家壟斷，很少報道關鍵技術。在國際上只有少數(shù)公司可以大規(guī)模生產(chǎn)超高純硫酸，技術壁壘很高。主要供應商通常會提供廣泛的濕式電子化學品產(chǎn)品線，并在市場上享有很高的知名度。頂級企業(yè)包括巴斯夫，三菱化學，亞仕電子，關東化學和Avantor等，它們在全球高純硫酸市場中發(fā)揮著重要作用。在2020年，排名前三的參與者在全球市場中的總收入份額為59.75%。前10名參與者的份額將占全球行業(yè)的84.03%。

全球超高純硫酸銷量及收入

未來幾年，本行業(yè)具有很大不確定性，本文的2021-2027年的預測數(shù)據(jù)是基于過去幾年的歷史發(fā)展、行業(yè)專家觀點、以及本文分析師觀點，綜合給出的預測。

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