書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章：等離子體的微納米制造

編號(hào)：JFKJ-21-464

作者：炬豐科技

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摘要

自信息時(shí)代到來(lái)以來(lái)，不斷縮小和降低半導(dǎo)體產(chǎn)品成本的需求日益增長(zhǎng)。為了滿足這一需求，已經(jīng)做了大量的研究來(lái)改進(jìn)我們當(dāng)前的微/納米制造工藝并開(kāi)發(fā)下一代半導(dǎo)體制造技術(shù)。高通量、低成本、更小的特征、高重復(fù)性和制造過(guò)程的簡(jiǎn)化都是研究人員不斷追求的目標(biāo)。不僅利用高能表面等離子體在硅襯底上形成有序的金納米粒子，還有一種利用表面等離子體的低成本光刻技術(shù)。

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最常用的光刻技術(shù)是光刻??略 ?

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等離子體納米光刻???略

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等離子透鏡??略

金納米粒子的形成???略

進(jìn)行了九個(gè)不同的實(shí)驗(yàn)，包括短脈沖束和長(zhǎng)脈沖束，每個(gè)裝置都進(jìn)行了多次試驗(yàn)。表1列出了每個(gè)裝置的具體實(shí)驗(yàn)參數(shù)。這九個(gè)實(shí)驗(yàn)的結(jié)果描述如下。

硅襯底上金納米粒子的尺寸分布

結(jié)論

將等離子體激元用于微納制造有能力徹底改變半導(dǎo)體工業(yè)。在第二章中，討論了一種通過(guò)光學(xué)等離子體天線產(chǎn)生寬陣列半周期金納米粒子的方法。在這項(xiàng)技術(shù)中，金/氧化鋁納米孔光學(xué)天線可以使用1064納米釹:釔鋁石榴石激光系統(tǒng)照射，將半周期金納米粒子沉積在任何平坦基底的表面上。所討論的方法顯示出作為文獻(xiàn)中其他納米粒子形成技術(shù)的低成本、簡(jiǎn)單、低能量和環(huán)境友好的替代物的巨大潛力。第四章討論了一種能夠產(chǎn)生λ/3數(shù)量級(jí)特征的低成本等離子體納米光刻光掩模。該技術(shù)利用氧化鋁的介電特性和鋁在紫外波長(zhǎng)下產(chǎn)生表面等離子體激元效應(yīng)的能力。氧化鋁中的周期性納米孔陣列允許在鋁膜的表面上形成局部表面等離子體，并暴露光致抗蝕劑中沒(méi)有等離子體效應(yīng)就不能再現(xiàn)的特征。

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