半導(dǎo)體器件的制造需要消耗大量的水，在器件制造的許多不同階段，水被用于表面清潔、濕法蝕刻、電鍍和化學(xué)機(jī)械平坦化等。半導(dǎo)體制造所需的水不是普通意義的水，是經(jīng)過嚴(yán)格處理，并符合半導(dǎo)體制造標(biāo)準(zhǔn)的超純水。

超純水 (UPW) 是經(jīng)過高度純化的水，去除了所有礦物質(zhì)、顆粒、細(xì)菌、微生物和溶解的氣體。在芯片廠里，它也經(jīng)常會被混稱為 DI Water（去離子水），但國內(nèi)通常把去離子水與超純水分的比較開，其實(shí)去離子水是包含了超純水的范疇，超純水是標(biāo)準(zhǔn)更高的去離子水。

普通的水中含有氯，硫等雜質(zhì)，會腐蝕芯片中的金屬。如果水中有Na，K等金屬雜質(zhì)，會造成MIC等問題。因此芯片制造需要一個絕對干凈的水質(zhì)，超純水應(yīng)運(yùn)而生。在芯片制造過程中，微小的雜質(zhì)或顆?？赡軙?dǎo)致產(chǎn)品缺陷，甚至導(dǎo)致產(chǎn)品失效。因此不僅是水，其他各種半導(dǎo)體材料如化學(xué)品，氣體等都需要超高的純度。超純水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：電阻率大于18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機(jī)碳）小于1ppb，DO（溶解氧）小于5ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小于200個/升；離子含量大部分是小于20到50ppt；細(xì)菌檢測：無。