樣品要求：無機非金屬樣品制作透射試樣要求樣品是非磁性的材料，以陶瓷為例

樣品的制備：

⑴切割：首先用沈陽科晶自動化設備有限公司生產(chǎn)的STX-202A或STX-202AQ將陶瓷試樣切割成厚度為300μm，10㎜見方的薄片。

⑵粗磨：用沈陽科晶自動化設備有限公司生產(chǎn)的UNIPOL-802精密研磨拋光機將300μm的薄片磨削成100μm的薄片。

⑶樣品粘結：將樣品臺放在沈陽科晶自動化設備有限公司生產(chǎn)的MTI加熱平臺上進行預熱5min，預熱后在樣品臺上涂上一定量石蠟，在溶解可流動的石蠟上放置好載玻片，載玻片預熱后在載玻片上滴上一定量石蠟，放上樣品，而后將樣品臺移下加熱平臺冷卻到室溫

⑷超聲切割：將樣品臺放置于Gatan601超聲波圓片切割機下端，將磨削成100μm的薄片超聲震蕩切割成φ3㎜的小圓片。

⑸單面拋光：將粘有樣品的樣品臺放入到Gatan623手動研磨盤中，將切割好的小圓片用1000#的砂紙進行單面研磨而后拋光直至試樣減薄至80μm，為凹坑做準備。

⑹凹坑：將粘有樣品的圓柱樣品臺放置于Gatan657凹坑儀上進行凹坑，使樣品中間研磨出一個深50～70μm的凹坑。凹坑過程中需要用到兩個輪，一個是研磨輪，一個是拋光輪，研磨輪研磨出凹坑后，換上拋光輪，在顯微鏡下對準凹坑，對樣品進行拋光，使凹坑中的拋光膏徹底清除。待拋光后將載有樣品的樣品臺放入丙酮中使樣品自行脫落。

⑺離子減?。簩伎雍蟮臉悠饭潭ㄔ陔x子減薄儀的樣品座上，用LEICA EM RES101等離子減薄設備對樣品進行減薄，直至中心減薄出一個小孔，樣品制備完畢。

⑻樣品觀察：

設備選用： ?品牌：日本電子JEOL （日本電子株式會社） ??電鏡型號：JEM2010

或品牌：日立 ???????電鏡型號：H-7650型透射電子顯微鏡

或FEI公司的 ①Talos F200i ?②Talos F200x ③Talos F200s ?④ Talos L120c 透射電鏡對樣品進行觀察。