新材料半導體生產(chǎn)的廢氣處理工藝
隨著科技的發(fā)展,目前市場上新材料行業(yè)與傳統(tǒng)材料相比,其應用范圍更廣了,新材料產(chǎn)業(yè)的研究與開發(fā)投入高,產(chǎn)品的附加值高在生產(chǎn)與市場的國際性強,而且新材料半導體行業(yè)的發(fā)展前景好。而新材料半導體行業(yè)在加工的過程中采用清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑,這些溶劑中含有大量的有機物成分,在整個工藝加工的過程中將會有部分的有機溶劑大部分通過揮發(fā)成為廢氣排放,這部分揮發(fā)的廢氣主要成分為具有揮發(fā)性的VOCs,下面講解一下關(guān)于:新材料半導體行業(yè)的廢氣應該怎么處理。
新材料半導體行業(yè)的廢氣除了含有VOCs以外,還混有HCl、氨、HF等危險污染物,采用的是RTO蓄熱式焚燒爐來處理半導體行業(yè)的廢氣:工業(yè)廢氣中主要含有酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體四種,自身具有的溶解特性,半導體工業(yè)的氣體雖然排放量大,但是氣體的濃度低。
????? RTO催化燃燒設備采用的是高溫破壞焚燒的廢氣治理技術(shù),升溫能源一般是電和天然氣,其高溫需高達700度或者以上,雖然溫度需高達700度左右,但是其實消耗的能源并不多,設備運行期間部分的熱能是能夠回收重新利用的,降低能量消耗的同時提高了廢氣分子的燃燒反應速率。

RCO技術(shù)是指在催化劑的作用下,使有機廢氣中的碳氫化合物在溫度較低的條件下(200~400℃)迅速氧化成水和二氧化碳,達到治理的目的。
RCO催化燃燒廢氣處理設備技術(shù)簡介
催化燃燒技術(shù)是指在較低溫度下(200~400℃),在催化劑的作用下使廢氣中的可燃組分徹底氧化分解,從而使氣體得到凈化處理的一種廢氣處理方法。催化燃燒廢氣處理是典型的氣-固相催化反應,其實質(zhì)是活性氧參與深度氧化作用。在催化燃燒過程中,催化劑的作用是降低反應的活化能,同時使反應物分子富集于催化劑表面,以提高反應速率。借助催化劑可使有機廢氣在較低的起燃溫度條件下發(fā)生無焰燃燒,并氧化分解為CO2 和H2O,同時放出大量熱量。
RCO催化燃燒設備工藝說明 。
當有機廢氣的流量大、濃度低、溫度低、采用催化燃燒需消耗大量的燃料時,可先采用吸附手段將有機廢氣吸附于吸附劑上并進行濃縮,然后通過熱空氣吹掃,使有機廢氣脫附成為高濃度有機廢氣(可濃縮10倍以上)后再進行催化燃燒。不需要補充熱源就可以維持正常運行。
半導體材料廢氣處理設備的凈化效率可維持穩(wěn)定在99%以上。