The Scene view has a number of?Draw Modes?to help you visualize different aspects of the Scene’s content. Among these are a set of modes to let you see exactly how global illumination (GI) is affecting your Scene. This page goes into more detail about the visualisation modes that are most relevant to GI.

請注意，在?Lighting 窗口中，__Object__ 選項卡顯示所選游戲?qū)ο蟮囊恍┎煌Ｊ剑?UV 通道在紋理空間中渲染為線框網(wǎng)格。勾選?Show Lightmap Resolution?復選框可在每個視圖的頂部應用棋盤紋理，通過縮放可顯示分辨率。

GI visualizations are not designed to work in Play Mode.

Shading Mode

Shaded

Shading Mode?的默認設置為?Shaded。此選項表示場景根據(jù)當前的光照設置完全點亮。

Global Illumination

Systems

預計算階段將基于接近度和光照貼圖參數(shù)自動將場景細分為系統(tǒng)（即，共享相同實時光照貼圖的對象組）。這樣做是為了在更新間接光照時允許多線程和優(yōu)化。此可視化將顯示具有不同顏色的系統(tǒng)。

Clustering

This shows the clusters that Enlighten generates from the lightmap static geometry. Enlighten calculates indirect lighting using clusters that are generated in the Clustering step. Resulting clusters should be larger than lightmap texels (the ratio is controlled by the Cluster Resolution parameter in?Lightmap Parameters. The step where geometry is converted to clusters can be quite memory intensive if the scale isn’t set correctly. If you are seeing high memory usage or long baking times it could be because the static geometry in your scene is getting cut up into many more clusters than what is actually needed. The clustering scene view mode can help you identify the geometry that needs to have UVs or Realtime Resolution tweaked.(這顯示了由光照生成的光貼圖靜態(tài)幾何體。使用在聚類步驟中生成的簇計算間接光照。產(chǎn)生的集群應該比lightmap texels大(比例由lightmap參數(shù)中的集群分辨率參數(shù)控制)。如果沒有正確設置規(guī)模，將幾何圖形轉(zhuǎn)換為集群的步驟可能會占用大量內(nèi)存。如果你看到了高內(nèi)存使用量或長時間的烘烤時間，這可能是因為你的場景中的靜態(tài)幾何圖形被分割成比實際需要的更多的集群。集群場景視圖模式可以幫助您識別需要調(diào)整uv或?qū)崟r分辨率的幾何圖形。)

Lit Clustering

這些是與聚類視圖中看到的相同聚類，但應用了實時 GI。

UV Charts

此選項顯示在計算預計算實時 GI 時使用的優(yōu)化 UV 布局。這是預計算過程中將自動生成的。完成了實例預計算階段便立即可用。UV Charts 的 Scene 視圖模式可以幫助您識別需要調(diào)整 UV 或縮放的幾何體（使用光照貼圖參數(shù)中的 Resolution 參數(shù)來更改比例）。調(diào)整實時分辨率時，此視圖也很有用。每個圖表的顏色不同。

Realtime Global Illumination

Albedo

此選項顯示計算 GI 時使用的反照率。反照率是根據(jù)材質(zhì)信息生成的，可以通過添加自定義 Meta pass 來完全自定義。方格覆蓋層可顯示傳遞給 Enlighten 的反照率紋理的分辨率。

Emissive

顯示計算 GI 時使用的發(fā)射。發(fā)射是根據(jù)材質(zhì)信息生成的，可通過添加自定義 Meta pass 來完全自定義。方格覆蓋層可顯示傳遞給 Enlighten 的發(fā)射紋理的分辨率。

Indirect

此選項僅顯示間接光照（Enlighten 生成的實時 GI 光照貼圖的內(nèi)容）。方格覆蓋層可顯示輻照度紋理的分辨率。如果禁用實時 GI，則此視圖模式不可選。

Directionality

該視圖顯示最主要的光線方向矢量。請參閱方向光照貼圖頁面以了解更多信息。方格覆蓋層可顯示方向性紋理的分辨率。

Baked Global Illumination

Baked Lightmap

此選項顯示應用于場景幾何體的烘焙光照貼圖。方格覆蓋層可顯示烘焙光照貼圖分辨率。

Shadowmask

此選項顯示陰影遮罩紋理遮擋值。它以相同的顏色為網(wǎng)格和光源輔助圖標著色，因此用戶可以驗證光照遮擋因子是否按預期烘焙。

Texel Validity

此模式顯示哪些紋理像素由于主要看到背面而被標記為無效。在光照貼圖烘焙期間，Unity 從每個紋理像素發(fā)出光線。如果紋理像素光線的很大一部分照射到背面幾何體，則該紋理像素被標記為無效。這是因為紋理像素首先不應該能夠看到背面。Unity 處理此問題的方法是用有效相鄰紋理像素替換無效紋理像素。您可以使用?Backface Tolerance?參數(shù) (LightmapParameters?>?General GI) 來調(diào)整此行為。

UV Overlap

如果光照貼圖圖表在 UV 空間中距離太近，則當 GPU 對光照貼圖進行采樣時，它們內(nèi)部的像素值可能會相互滲色。這可能導致意外瑕疵。此模式允許您識別哪些紋理像素過于靠近其他圖表中的紋理像素。在解決 UV 問題時，這非常有用。

Light Overlap

此模式允許您查看是否所有靜態(tài)光源都已烘焙到陰影遮罩。如果關卡某個區(qū)域被四個以上的靜態(tài)光源照亮，超出的光源將回退到完全烘焙并顯示為紅色。與此計算相關的不是實際光照表面，而是光源的體積的交點區(qū)域。因此，即使在下面的截屏中看起來好像網(wǎng)格上的彩色斑點不重疊，但四個聚光燈的錐體最終也會與方向光一起重疊在地平面下方。