新機(jī)器、新裝置、新設(shè)備的出現(xiàn)，是“無中生有”的嗎？

創(chuàng)新可以是靈光乍現(xiàn)，

創(chuàng)新更可以是有跡可循！

很多企業(yè)嘗試通過很多創(chuàng)新輔助方法，以期研發(fā)部門能夠產(chǎn)生更多的創(chuàng)新成果，如有研發(fā)部門專門組織創(chuàng)新會議進(jìn)行的頭腦風(fēng)暴等活動，然而，傳統(tǒng)創(chuàng)新輔助方法存在思維過于發(fā)散、創(chuàng)新效率低下的問題，還有什么創(chuàng)新輔助方法可以助力于創(chuàng)新成果“有序輸出”呢？

我們今天探索嘗試運用TRIZ中的“最終理想解”（Ideal Final Result，IFR）進(jìn)行創(chuàng)新輔助活動，以期助于企業(yè)專利質(zhì)與量的提升。

最終理想解又被稱為“專利創(chuàng)新導(dǎo)航儀”。其含義是拋開各種客觀限制條件，設(shè)立各種理想模型來分析問題解決的可能方向和位置，并以取得最終理想解IFR作為終極追求目標(biāo)，所謂最終理想解可以理解為是使產(chǎn)品處于理想狀態(tài)的解。

產(chǎn)品的理想狀態(tài)常常用理想度來衡量。

即理想度的值等于有用功能的總和除以“有害功能+成本”的總和由上述理想度公式可以推知，我們的最佳理想的技術(shù)系統(tǒng)是：

這個技術(shù)系統(tǒng)理想模型可以有效地幫助研發(fā)人員在問題解決之初，先確定“解”的方向，產(chǎn)品研發(fā)過程中沿著這個確定的方向進(jìn)行就可以到理想解。（我們之前在技術(shù)交底書如何撰寫的主題中講到，技術(shù)交底書撰寫一切從技術(shù)出發(fā)，這與運用“最終理想解”思維工具尋找創(chuàng)新方案的邏輯上一致的，相關(guān)鏈接：專利實務(wù)|如何快速高效輸出有質(zhì)量的專利技術(shù)交底書？）

這個最終理想解的“解題過程”，也就是技術(shù)方案產(chǎn)生的過程，如何求解得到答案呢？

理論上，尋找答案的環(huán)節(jié)有如下6 個思考階段，即：

（1）改進(jìn)的最終目的是什么？

（2）“理想解”IFR是什么？

（3）達(dá)到“理想解”的障礙是什么？

（4）出現(xiàn)這種障礙的結(jié)果是什么？

（5）不出現(xiàn)這種障礙的條件是什么？

（6）創(chuàng)造這些條件存在的可用資源是什么？

其中，內(nèi)容（3）和（4）可以作為我們撰寫技術(shù)交底書時表述技術(shù)問題的參考依據(jù)；內(nèi)容（5）和（6）可以作為我們撰寫技術(shù)交底書時表述技術(shù)方案的參考依據(jù)；內(nèi)容（1）和（2）我們可以將其作為撰寫技術(shù)交底書中技術(shù)效果部分的參考依據(jù)；利用IFR思考問題解決方案的過程與技術(shù)交底書的邏輯脈絡(luò)是一致，經(jīng)過上述6個問題的思考基礎(chǔ)，相信寫技術(shù)交底書會變得容易很多。