1、過程控制針對生產(chǎn)過程的主要參數(shù)包括：
A、溫度
B、壓力
C、流量
D、物位
答案：溫度;
壓力;
流量;
物位

2、過程控制技術(shù)的發(fā)展中，控制策略與算法也經(jīng)歷了由簡單控制到復(fù)雜控制、先進(jìn)控制的發(fā)展歷程。
答案：對

3、過程控制系統(tǒng)按照設(shè)定值的形式不同劃分為：
A、定值控制系統(tǒng)
B、隨動控制系統(tǒng)
C、程序控制系統(tǒng)
D、隨機(jī)控制系統(tǒng)
答案：定值控制系統(tǒng)、隨動控制系統(tǒng)、順序控制系統(tǒng)

4、過程控制系統(tǒng)按照系統(tǒng)結(jié)構(gòu)特點(diǎn)分為：
A、反饋控制系統(tǒng)
B、前饋控制系統(tǒng)
C、復(fù)合控制系統(tǒng)
D、微分控制系統(tǒng)
答案：反饋控制系統(tǒng);
前饋控制系統(tǒng);
復(fù)合控制系統(tǒng)

5、穩(wěn)定系統(tǒng)的過渡過程包括：
A、單調(diào)衰減過程
B、振蕩衰減過程
C、等幅振蕩過程
D、振蕩發(fā)散過程
答案：隨機(jī)振蕩過程

6、衰減比和衰減率是衡量過渡過程穩(wěn)定程度的動態(tài)指標(biāo)。
答案：對

7、最大動態(tài)偏差和超調(diào)量是衡量過渡過程穩(wěn)定程度的動態(tài)指標(biāo)。
答案：對

8、偏差積分性能指標(biāo)是系統(tǒng)階躍響應(yīng)的綜合性能指標(biāo)。
答案：對

9、采用不同的偏差積分性能指標(biāo)意味著對過渡過程評價(jià)的側(cè)重點(diǎn)不同。
答案：對

10、過程控制系統(tǒng)中性能指標(biāo)要求越高越好。
答案：錯

1、數(shù)字儀表的分辨率用來表征儀表的靈敏程度。
答案：對

2、溫度不能直接測量，只能間接測量，其測量方法可以歸結(jié)為兩類：
A、接觸式測量方法
B、紅外感應(yīng)式測量方法
C、非接觸式測量方法
D、膨脹式測量方法
答案：接觸式測量方法;
非接觸式測量方法

3、熱電偶使用時需要進(jìn)行冷端溫度補(bǔ)償。
答案：對

4、金屬熱電阻測溫精度高，測溫范圍寬，在工業(yè)溫度測量中得到了廣泛應(yīng)用。
答案：對

5、彈性式壓力計(jì)的測壓敏感元件是：
A、彈性元件
B、電氣變換裝置
C、控制元件
D、記錄機(jī)構(gòu)
答案：彈性元件()

6、差壓式流量計(jì)是基于流體流動的節(jié)流原理，利用流體流經(jīng)節(jié)流裝置時產(chǎn)生的壓力差而實(shí)現(xiàn)流量測量的。
答案：對

7、電氣式物位測量是利用敏感元件將物位的變化轉(zhuǎn)換為電量參數(shù)的變化，通過測出電量的變化而得知物位的。
答案：對

8、超聲波液位計(jì)的測量精度不高，要提高其測量精度，必須采取措施消除聲速變化的影響。
答案：對

9、紅外線分析儀是根據(jù)不同的組分對不同波長的紅外線具有選擇性吸收的特征工作的。
答案：對

10、使用紅外線氣體分析儀時，必須對待測氣體的組成內(nèi)容有大致的了解，才能準(zhǔn)確測量。
答案：對

1、下面屬于連續(xù)控制規(guī)律的是：
A、位式控制
B、P
C、PI
D、PID
答案：A,B,D

2、DDZ-III型儀表可構(gòu)成安全火花防爆系統(tǒng)。
答案：對

3、數(shù)字式控制器是以什么為基礎(chǔ)的多功能控制儀表？
A、微處理器
B、數(shù)字電路
C、模擬電路
D、通信電路
答案：微處理器

4、PLC的主要組成部分包括：
A、CPU
B、存儲器
C、輸入輸出接口
D、電源
答案：CPU;
存儲器;
輸入輸出接口;
電源

5、PLC的優(yōu)勢在于開關(guān)量邏輯控制，因此過程控制中應(yīng)用較少。
答案：錯

6、控制儀表按工作能源分類有（ ）
A、電動儀表
B、氣動儀表
C、自力式儀表
D、水動儀表
答案：電動儀表;
氣動儀表;
自力式儀表

7、控制儀表的發(fā)展基本上分為三個階段：基地式儀表、單元式組合儀表、以微處理器為中心的控制儀表。
答案：正確

8、所謂控制規(guī)律是指控制器的輸出信號與輸入偏差信號之間的關(guān)系。
答案：對

9、比例控制的控制結(jié)果沒有靜差。
答案：錯

10、積分控制當(dāng)有偏差存在時，積分輸出將隨時間增長（或減小）；當(dāng)偏差消失時，輸出能保持在某一值上。
答案：對