VCD軍事高真空箱壓力是指在VCD高真空箱中所施加的壓力。VCD軍事高真空箱是一種用于制備高質(zhì)量薄膜的設(shè)備，其工作原理是將待制備的材料在真空環(huán)境下加熱蒸發(fā)，然后通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在基底上形成薄膜。在這個(gè)過(guò)程中，VCD軍事高真空箱需要對(duì)待制備材料施加一定的壓力，以保證其在高溫下均勻地蒸發(fā)和沉積在基底上。因此，VCD軍事高真空箱壓力的大小直接影響到薄膜的質(zhì)量和均勻性。

VCD軍事高真空箱壓力是指在VCD高真空箱中所施加的壓力。VCD軍事高真空箱是一種用于制備高質(zhì)量薄膜的設(shè)備，其工作原理是將待制備的材料在真空環(huán)境下加熱蒸發(fā)，然后通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在基底上形成薄膜。在這個(gè)過(guò)程中，VCD軍事高真空箱需要對(duì)待制備材料施加一定的壓力，以保證其在高溫下均勻地蒸發(fā)和沉積在基底上。因此，VCD軍事高真空箱壓力的大小直接影響到薄膜的質(zhì)量和均勻性。

二、主要技術(shù)指標(biāo)：

規(guī)格型號(hào)： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內(nèi)箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空計(jì)顯示或PLC觸摸屏控制

結(jié)構(gòu)： 一體式結(jié)構(gòu)（內(nèi)置真空泵）或分體式（外置真空泵）

內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級(jí)烤漆處理

使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ或AC 三相 五線 380V 50HZ

選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另購(gòu)（可用戶自備）