文獻(xiàn)晶體數(shù)據(jù)改進(jìn)示例9(無(wú)序限制和溶劑建模)
案例來(lái)源:J. Am. Chem. Soc.?2023,?145, 21159?21164.
DOI:10.1021/jacs.3c06555
CCDC:2181309和2181310
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圖形用戶界面:Olex2[1](版本:Olex2-1.5)
精修程序:SHELXL[2](版本:SHELXL-2019/2)
CIF文件下載:CCDC[3]官網(wǎng)
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根據(jù)CCDC號(hào)從CCDC官網(wǎng)下到2181309.cif和2181310.cif文件,用Olex2打開(kāi)并提取其hkl和res文件查看,如圖1–2所示,兩個(gè)數(shù)據(jù)使用Solvent Mask[4]進(jìn)行了溶劑遮掩處理,其中第一個(gè)結(jié)構(gòu)中叔丁基做了二重?zé)o序處理,但很顯然,其第二組分的鍵長(zhǎng)不正常,C-C單鍵鍵長(zhǎng)最短的為1.23(3) ?,而最長(zhǎng)的達(dá)到了1.77(2) ?,如圖3所示,這顯然是精修中沒(méi)有對(duì)鍵長(zhǎng)進(jìn)行相應(yīng)的限制。第二個(gè)結(jié)構(gòu),做了無(wú)序的叔丁基均較為正常,不過(guò)結(jié)構(gòu)中明顯存在無(wú)序的苯基未作無(wú)序處理。
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去掉Use Solvent Mask復(fù)選勾,精修數(shù)輪后,如圖4–5所示,第一個(gè)結(jié)構(gòu)中殘余峰Q1、Q2和Q3經(jīng)grow后形成一個(gè)六元環(huán),而第二結(jié)構(gòu)中殘余峰Q1、Q2、Q3和Q4經(jīng)grow后也形成一個(gè)六元環(huán),再結(jié)合其單晶培養(yǎng)的溶劑為苯這一信息,推測(cè)該六元環(huán)應(yīng)該是游離的溶劑苯。


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根據(jù)上述分析,第一個(gè)數(shù)據(jù)用DFIX指令和SADI指令對(duì)C-C鍵鍵長(zhǎng)和1,3-距離進(jìn)行限制,第二個(gè)數(shù)據(jù)對(duì)苯基進(jìn)行無(wú)序拆分處理,兩個(gè)數(shù)據(jù)均按苯對(duì)殘余電子密度峰進(jìn)行建模,最終結(jié)果如圖5–6所示。


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視頻操作演示請(qǐng)參閱:https://www.bilibili.com/video/BV1xN4y1Z7hj
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結(jié)語(yǔ)
對(duì)于能夠建模的溶劑分子,最好是應(yīng)建盡建,除非溶劑無(wú)序太嚴(yán)重導(dǎo)致無(wú)法建模,否則盡量不要使用溶劑遮掩。使用溶劑遮掩雖然方便,并且絕大多數(shù)情況下能夠使得數(shù)據(jù)指標(biāo)變得漂亮,但這通常是逃避問(wèn)題的自欺欺人,遇到較真的審稿人很可能會(huì)打回來(lái)讓對(duì)溶劑進(jìn)行建模,筆者就遇到不少讓對(duì)溶劑進(jìn)行建模的回稿意見(jiàn)。而對(duì)于無(wú)序拆分的組分,如果精修后鍵長(zhǎng)不合理,應(yīng)當(dāng)進(jìn)行適當(dāng)?shù)南拗啤?/span>
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