蘇伊士EDI模塊有很多的型號，MK-3是相當(dāng)出色的EDI模塊，與別的品牌的EDI模塊相比，其不僅有著較長的使用壽命，且其各項性能參數(shù)也比較突出，因此有許多的EDI設(shè)備的用戶會選擇使用該型號的蘇伊士EDI模塊。

有很多使用MK-3的用戶不太懂得如何對其進行清洗，為此，小編今天給大家?guī)砹颂K伊士蘇伊士EDI模塊MK-3清洗注意事項。

首先需要說明的是，對于蘇伊士EDI模塊MK-3來說，其清洗系統(tǒng)和消毒系統(tǒng)有四種類型：低pH值型; 高pH值型; 低濃度氧化消毒清洗型；及高溫消毒型。而氯化鈉被用來輔助一些其他化學(xué)品的清洗。

1.?有關(guān)低 pH值型， 高 pH值型， 低濃水氧化消毒清洗型，及高溫消毒型的描述在下面的內(nèi)容中作詳細(xì)闡述。當(dāng)需要選擇高溫消毒時，則要啟動高溫消毒程序。 單

2.?獨的清洗及消毒程序只針對淡水，濃水及極水管線而言。清洗及消毒的循環(huán)過程可獨立完成。獨立的循環(huán)程序也可同時進行以減少總的清洗時間。由于極水循環(huán)的低清洗流速，大多數(shù)情況下清洗過程必須同時與濃水循環(huán)清洗和淡水循環(huán)清洗同時進行。

3.?清洗水箱及水泵是必備的（CIP系統(tǒng)）?？偣残枰鍡l清洗流水線：兩個進口（淡水進口和濃水進口）以及三個出口（淡水出口，極水出口和濃水排放）。

4.?低pH值和高pH值溶液應(yīng)根據(jù)程序所提供的清洗溶液容量以及流速，運行30到60分鐘。低濃度氧化劑消毒程序需運行120分鐘。氯化鈉消毒運行10到20分鐘。

5.?清洗過程應(yīng)在盡可能的低壓情況下工作。在大多數(shù)情況中，由于流速過低，清洗過程中通過所有循環(huán)后的壓損低于1 bar (15 psi)。模塊內(nèi)部壓力應(yīng)始終保持在≤ 6.9 bar (100 psi)。

上述內(nèi)容就是有關(guān)蘇伊士EDI模塊MK-3清洗的注意事項，不了解其清洗的用戶很有必要了解這些東西，以備不時之需。

蘇伊士EDI模塊是將電滲析和離子交換技術(shù)有效結(jié)合的一種新穎的水處理設(shè)備，其可以做到再生無酸堿、可以連續(xù)再生，減少了再生成本的同時，還提高了它的運行效率。其比傳統(tǒng)的混床有著非常大的優(yōu)勢，是一種綠色環(huán)保且高效的水處理工藝。越來越多的廠家開始采用EDI進行水處理，其將逐漸取代傳統(tǒng)的混床。