英特爾介紹 Intel 4 制程工藝:相比當(dāng)前 Intel 7 實(shí)現(xiàn)兩倍面積微縮
IT之家(孤城)
IT之家 9 月 20 日消息,在今天舉辦的英特爾 ON 技術(shù)創(chuàng)新峰會(huì)上,英特爾介紹了酷睿 Ultra 第 1 代(代號(hào):Meteor Lake)所采用的 Intel 4 工藝。


英特爾表示,與 lntel 7 相比,Intel 4 實(shí)現(xiàn)了兩倍的面積微縮,帶來(lái)了高性能邏輯庫(kù),并引入了多個(gè)創(chuàng)新:
簡(jiǎn)化工藝的 EUV 光刻技術(shù)
lntel 4 針對(duì)高性能計(jì)算應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化,可支持低電壓(<0.65V)和高電壓(>1.1V)運(yùn)行。與 lntel 7 相比,intel 4 的 iso 功率性能提高了 20% 以上。
高密度 MIM(金屬-絕緣體-金屬)電容器實(shí)現(xiàn)卓越的供電性能
IT 之家稍早前報(bào)道,Intel 4 工藝目前正在加速量產(chǎn),全新的 Meteor Lake 處理器首發(fā)。Intel 3 工藝也將在 2023 年下半年制造準(zhǔn)備就緒。
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