《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》--技術(shù)資料合集21
一:《新型氮化鎵功率晶體管特性分析》
二:《氮化鎵晶體管的DC_DC電源模塊》
三:《適用于GaN器件的諧振驅(qū)動電路》
四:《高性能GaN納米線陣列》
五:《GaN單晶片的表面加工工藝研究》
六:《超薄氮化鎵制備及其光學(xué)性質(zhì)》
七:《SiO2藍寶石襯底對GaN生長及LED發(fā)光性能的影響》
八:《大規(guī)模GaN納米線陣列的制備及表征》
九:《應(yīng)用于LLC諧振變換器的GaN器件電路設(shè)計》
十:《GaN單晶襯底上同質(zhì)外延界面雜質(zhì)的研究》
十一:《具有雙異質(zhì)結(jié)的氮化鎵高壓肖特基二極管》
十二:《抑制GaN變換器振鈴的高頻驅(qū)動電路設(shè)計》
十三:《六英寸Si基GaN功率電子材料及器件的制備與研究》
十四:《GaN器件大功率雙向DC_DC變換器》
十五:《GaN器件的高功率諧振變換器的研究》
十六:《氮化鎵功率器件的過流保護電路研究》
十七:《仿真研究溫度對GaN MOSFET特性的影響》
十八:《高性能GaN-on-GaN二極管的研究》
十九:《大功率器件及材料的技術(shù)研究進展》
二十:《低壓氮化鎵器件諧振技術(shù)及其特性》
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