POLOS為半導體、生命科學、食品、實驗室和制藥行業(yè)提供高端設備，特別是有針對性的支持；大學、R&D研究所和小型生產設施。我們的產品組合包括用戶友好和高度耐用的系統(tǒng)，主要在光刻和處理過程領域。POLOS成立于2003年，我們的第一個產品線開始；單晶片旋涂系統(tǒng)。截至今天，這些系統(tǒng)已在全球售出4000多臺。多年來，我們有幸推出了許多其他新的POLOS產品。我們根據(jù)長期經驗和用戶反饋精心開發(fā)我們的設備，以支持您的過程。

產品說明

我們的POLOS臺式超聲波噴涂系統(tǒng)用于R&D和小批量生產領域的精密噴涂。典型的應用包括用于各種晶片材料的光致抗蝕劑涂層和為薄膜工藝產生功能層。

全新POLOS UC330系統(tǒng)允許高精度納米顆粒涂層，與標準光刻膠應用技術相比，光刻膠消耗效率更高。在我們的超聲波噴涂系統(tǒng)中，材料利用率超過95%，這將使我們的用戶降低光刻膠消耗的成本，并提高他們的加工效率。傾聽客戶的需求，我們設計了一個緊湊的系統(tǒng)，具有易于使用的軟件控制，能夠從各種超聲波噴嘴和免費選項中進行選擇，讓您找到適合其過程應用的完美匹配。

POLOS UC330標準配備集成注射泵、載氣調節(jié)、超聲波發(fā)生器和可控運動系統(tǒng)。擁有專利的超聲波噴涂技術，該系統(tǒng)可以提供高度均勻和高效的精細噴涂。

高精度納米粒子涂層

與標準光致抗蝕劑應用技術相比，更有效的光致抗蝕劑消耗

具有易于使用的軟件控制的緊湊系統(tǒng)

多種超聲波噴嘴和免費選項

我們的POLOS臺式超聲波噴涂系統(tǒng)用于R&D和小批量生產領域的精密噴涂。典型的應用包括用于各種晶片材料的光致抗蝕劑涂層和為薄膜工藝產生功能層。

全新POLOS UC330系統(tǒng)允許高精度納米顆粒涂層，與標準光刻膠應用技術相比，光刻膠消耗效率更高。在我們的超聲波噴涂系統(tǒng)中，材料利用率超過95%，這將使我們的用戶降低光刻膠消耗的成本，并提高他們的加工效率。傾聽客戶的需求，我們設計了一個緊湊的系統(tǒng)，具有易于使用的軟件控制，能夠從各種超聲波噴嘴和免費選項中進行選擇，讓您找到適合其過程應用的完美匹配。

POLOS UC330標準配備集成注射泵、載氣調節(jié)、超聲波發(fā)生器和可控運動系統(tǒng)。擁有專利的超聲波噴涂技術，該系統(tǒng)可以提供高度均勻和高效的精細噴涂。