ASEMI大電流快恢復二極管型號SFF2006
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SFF2006這類二極管的優(yōu)點是反向恢復時間短、開關(guān)特性好、體積小,因此廣泛應用于脈寬調(diào)制器、不間斷電源、開關(guān)電源、變頻器等電路中。SFF2006快恢復二極管的作用是高頻大電流整流或續(xù)流。
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SFF2006參數(shù)描述
型號:SFF2006
封裝:ITO-220AB
特性:超快恢復時間
電性參數(shù):20A,600V
芯片材質(zhì):抗沖擊硅芯片
正向電流(Io):20A
芯片個數(shù):2
正向電壓(VF):1.5V
芯片尺寸:110MIL
浪涌電流Ifsm:200A
漏電流(Ir):10uA
工作溫度:-50~+150℃
恢復時間(Trr):35nS
引線數(shù)量:3
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SFF2006產(chǎn)品特點:
平面技術(shù)、高壓、外延超快恢復二極管制造技術(shù):
帶緩沖層的外延材料結(jié)構(gòu)設計,降低正向壓降,實現(xiàn)軟恢復特性;
先進的場限環(huán)和場板復合平面結(jié)端子技術(shù),實現(xiàn)高耐壓要求;
先進的微電子平面制造技術(shù),保證結(jié)面均勻,減少漏電流;
淺結(jié)、低陽極摻雜濃度設計技術(shù),保證良好的熱穩(wěn)定性;
獨有的延長鉑壽命控制技術(shù),實現(xiàn)超快恢復特性。
全新臺面結(jié)構(gòu)、超低正向、極快恢復二極管制造技術(shù):
采用多層復合外延材料,實現(xiàn)超低正向壓降和軟恢復特性;
新型光滑臺面制造工藝,滿足高背壓、低泄漏要求;
獨特的鉑金擴散壽命控制技術(shù),確保極快的恢復時間和低正向壓降;
先進的鈍化保護技術(shù),降低反向漏電流,提高器件可靠性;
三次光刻,無需離子注入和擴散,大大縮短了工藝周期,降低了生產(chǎn)成本。
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快恢復二極管SFF2006的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外觀如圖所示。SFF2006的內(nèi)部結(jié)構(gòu)為雙管式,其中雙管內(nèi)有兩個快恢復二極管,根據(jù)連接方式在這兩種快恢復二極管中,管子可分為共陰對管和共陽對管。
