右鍵打開1.3 Simple GPU Emitter【簡單GPU發(fā)射器】

Notice the yellow GPU icon on emitter properties: This icon lets you know the emitter is in GPU Mode.

Most features work in both CPU and GPU mode, but some behave differently, for instance GPU collisions are handled in a more performant but less accurate way on GPU, and certain renderers, for instance the light renderer and ribbon renderer, are currently CPU only.

The benefit of GPU simulation is that higher particle counts are usually well handled on the GPU, the downside being if you are already heavily GPU bound, sometimes it's desirable to have the CPU do the world of simulating particles instead.

【留意發(fā)射器屬性上面的黃色GPU圖標(biāo)：這圖標(biāo)讓你知道發(fā)射器為GPU模式?！?/p>

【大多數(shù)功能都可在CPU和GPU中運(yùn)行，但某些行為是不一樣的，如GPU處理碰撞更為高效但缺少精確度，和某些渲染器，如光渲染器和條帶渲染器，當(dāng)前只能在CPU模式上運(yùn)行?！?/p>

【使用GPU模擬的好處是通常能更好地處理高數(shù)量粒子，如果GPU負(fù)載過高時(shí)則需要減少GPU模擬，這時(shí)就可以使用CPU代替模擬粒子】

It's also worth noting that only the PARTICLE scripts (these two Spawn and Update sections in green) are run on the GPU.

System and Emitter scripts (The orange and blue system and emitter sections above) are exclusively executed on the CPU only and thus are limited to only CPU friendly operations, for example System and Emitter scripts cannot sample textures, or query the scene distance field.

【需要注意的是只有粒子腳本（粒子生成和粒子更新）會(huì)在GPU上運(yùn)行?！?/p>

【系統(tǒng)和發(fā)射器腳本只能在CPU上運(yùn)行并因此只能執(zhí)行CPU支持的操作，如系統(tǒng)和發(fā)射器腳本不能進(jìn)行紋理取樣，或查詢場景距離場】

點(diǎn)擊粒子系統(tǒng)編輯窗口上方的Bounds【邊界】選項(xiàng)，顯示邊界。在場景中，當(dāng)攝像機(jī)視角范圍內(nèi)包含部分邊界時(shí)，才會(huì)顯示該粒子系統(tǒng)。

Properties【屬性】（System）

Fixed Bounds【系統(tǒng)固定邊界】：啟用后，發(fā)射器邊界設(shè)置無效

Properties【屬性】（Emitter）

Sim Target【模擬目標(biāo)】

CPUSim【CPU模擬】

GPUCompute Sim【GPU計(jì)算模擬】

Calculate Bounds Mode【計(jì)算邊界模式】

Dynamic【動(dòng)態(tài)的】：僅CPU可用，自動(dòng)動(dòng)態(tài)調(diào)整邊界

Fixed【固定的】：手動(dòng)設(shè)置固定的邊界范圍

Programmable【可編程的】：在腳本或藍(lán)圖中另外設(shè)置，沒設(shè)置時(shí)為零邊界

Spawn Burst Instantaneous【瞬間生成】模組：在循環(huán)的某一時(shí)間節(jié)點(diǎn)瞬間生成粒子

Spawn Count【生成數(shù)量】

Spawn Time【生成時(shí)間】：指循環(huán)中的某個(gè)時(shí)間點(diǎn)，無限循環(huán)時(shí)每次循環(huán)都會(huì)在該時(shí)間點(diǎn)生成

Spawn Probability【生成概率】：取值0-1，指此生成事件發(fā)生的概率

Spawn Group【生成組】：給此模組生成的粒子編組號(hào)

Loop Count Limit【循環(huán)次數(shù)限制】：為1時(shí)即在第一個(gè)循環(huán)周期結(jié)束后不再運(yùn)行此模組

Shape Location【形狀位置】模組：使粒子在特定形狀內(nèi)生成

Shape Primitive【原始形狀】

Sphere【球形】

Cylinder【圓柱體】

Box/Plane【長方體/平面】

Torus【圓環(huán)體】

Ring/Disc【環(huán)狀/圓盤】

Cone【圓錐】

（僅Sphere）Sphere Radius【球半徑】

（僅Sphere）Sphere Distribution【球分布】：決定粒子生成點(diǎn)在球內(nèi)的分布情況

? ? ? Random【隨機(jī)】：生成點(diǎn)在球內(nèi)隨機(jī)分布

? ? ??Direct【直接設(shè)置】

? ? ??Uniform【均勻分布】

?? ? ??（僅Random）Sphere Surface Distribution【球表面分布】：=1時(shí)完全分布在表面，＜1時(shí)分布在球里面，＞1時(shí)分布在球表面外

?? ????（僅Random）Hemisphere Distribution【半球分布】：對球形進(jìn)行裁剪

?? ????（僅Random）Hemisphere Angle Type【半球角度類型】：調(diào)整半球分布輸入值的類型

?? ????（僅Direct）U Position【U位置】：確定水平圓周上的點(diǎn)的位置，取值0-1

?? ????（僅Direct）V Position【V位置】：確定豎直方向上的高度位置，取值0-1

?? ????（僅Direct）Sphere Radius Position【球半徑位置】：球?qū)嶋H半徑=球半徑*球半徑位置

?? ????（僅Uniform）Uniform Distribution【均勻分布】：取值0-1，0.5為半球

?? ????（僅Uniform）Uniform Spiral Amount【均勻螺旋數(shù)量】：影響粒子螺旋排列情況

?? ????（僅Uniform）Uniform Count【均勻分布點(diǎn)的數(shù)量】

?? ????（僅Uniform）Uniform Particle Index【均勻粒子索引】：按此索引號(hào)選擇均勻分布點(diǎn)

Transform Order【變換順序】

Scale/Rotate/Offset【縮放→旋轉(zhuǎn)→偏移】

Scale/Offset/Rotate【縮放→偏移→旋轉(zhuǎn)】

Scale Mode【縮放模式】：對形狀位置進(jìn)行縮放

None【不縮放】

Default【默認(rèn)】

（僅Default）Non Uniform Scale【不統(tǒng)一縮放】

Rotation Mode【旋轉(zhuǎn)模式】：對形狀位置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)

Offset Mode【偏移模式】：對形狀位置進(jìn)行偏移

Curl Noise Force【卷曲噪聲力】模組：添加能產(chǎn)生卷曲效果的不規(guī)則的力

Noise Strength【噪聲強(qiáng)度】

Noise Frequency【噪聲頻率】：調(diào)節(jié)卷曲噪聲采樣的速率

Noise Quality/Cost【噪聲質(zhì)量/消耗】：質(zhì)量越高，向量場分辨率越大，內(nèi)存消耗越大

Pan Noise Field【平移噪聲場】：為False時(shí)，每次循環(huán)使用相同的噪聲場

Mask Curl Noise【遮罩卷曲噪聲】：使特定方向的噪聲力無效

Curl Noise Cone Mask Angle【卷曲噪聲圓錐遮罩角度】：遮罩卷曲噪聲向量與遮罩軸角度大于此設(shè)置角度的卷曲噪聲

Curl Noise Cone Mask Falloff Angle【卷曲噪聲圓錐遮罩衰減角度】：此角度小于遮罩角度時(shí)，對衰減角度與遮罩角度之間的噪聲力產(chǎn)生輕微的衰減

Curl Noise Cone Mask Axis【卷曲噪聲圓錐遮罩軸】

Drag【拖拽力】模組

Drag【拖拽力】：降低粒子線速度的阻力

Rotational Drag【旋轉(zhuǎn)拖拽力】：降低粒子旋轉(zhuǎn)速度的阻力

Ignore Mass【無視質(zhì)量】：為True時(shí)可使不同質(zhì)量粒子產(chǎn)生的拖拽效果一致

Point Attraction Force【點(diǎn)吸引力】模組

Attraction Strength【吸引力強(qiáng)度】

Attraction Radius【吸引力半徑】

Falloff Exponent【衰減指數(shù)】

Attractor Position Offset【吸引源位置偏移】

Kill Radius【清除半徑】：清除在半徑內(nèi)的粒子

Kill Radius Overshoot Corrention【清除半徑超越修正】：數(shù)值越高越容易清除高速粒子

Position To Attract【吸引位置】：吸引的目標(biāo)位置

Attractor Position【吸引源位置】

Color【顏色】模組

Color模組和Scale Color模組都是改變Particles.Color參數(shù)，但使用Scale Color時(shí)，會(huì)創(chuàng)建Particles.Initial.Color參數(shù)并緩存粒子的初始顏色。

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