產(chǎn)品簡介

? ? ? UNIPOL-1220S型自動研磨工作站，包含自動研磨拋光以及清洗單元，可以實現(xiàn)從研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程，通過觸摸屏操作可精確控制和設(shè)置磨拋、清洗的所有參數(shù)，參數(shù)可以存檔，研磨拋光過程中可以自動更換研磨砂紙或拋光墊，一鍵啟動程序，從而實現(xiàn)樣品自動化操作的一致性。適用于金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復(fù)性和一致性實驗。

?主要特點

1、全自動研磨拋光+清洗一次完成，節(jié)省人力

2、研磨盤片用真空吸附在下盤，研磨時，研磨盤下盤轉(zhuǎn)速可任意調(diào)整。

3、研磨拋光過程中可自動更換不同粒度的研磨砂紙和拋光墊，可儲存16組。

4、采用機械加壓方式，且壓力可調(diào)整，根據(jù)樣品不同材質(zhì)，任意調(diào)整所需壓力，最大30kg。

5、配備3組蠕動泵進磨料，搭配使用，靈活性高。

6、整機外殼鋼板烤漆，耐用安全性高，并帶有防塵罩。

7、方便的觸控式人機操作界面，具備可編程的軟件系統(tǒng)。

8、包含多種材料數(shù)據(jù)庫，可滿足對金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復(fù)性和一致性實驗。

9、通過超聲實現(xiàn)對樣品進行清洗，確保下一道工序不會被上一道工序殘留物污染。

技術(shù)參數(shù)

1、研磨拋光單元

-上盤直徑：φ160mm

-上盤轉(zhuǎn)速：20-350rpm

-最大加載壓力：30kg

-下研磨盤直徑：381mm

-下研磨盤轉(zhuǎn)速：20-378rpm

-下研磨盤采用真空吸附方式

-防水圈可升降

2、清洗單元

-清洗方式：超聲波+清水沖洗

-設(shè)置有水位檢測開關(guān)。

-設(shè)置有電磁閥切換進水、排水。

3、儲料單元

-通過程序設(shè)置自動更換研磨砂紙和拋光墊
-最多可儲存16組φ381mm磨片和拋光片，更換順序可設(shè)定
-通過真空吸附固定在研磨拋光盤上
-通過程序可設(shè)置研磨/拋光時間和次數(shù)

-采用電動升降進給方式。

4、研磨拋光液配備

-用蠕動泵驅(qū)動滴料系統(tǒng)。

-標配3組滴料器，最多選配6組滴料器。

-自動檢測滴料瓶是否缺液。

5、外形尺寸

長x寬x高 1600×1002×1688mm