書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章：RCA晶圓清洗工藝

編號(hào)：JFKJ-21-191

作者：炬豐科技

? 隨著清潔和環(huán)境需求的增長(zhǎng)，該行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的RCA清潔正慢慢地讓位于多種選擇可選擇的晶圓清洗選項(xiàng)列表。

關(guān)鍵因素：??

? 清洗設(shè)備的類型，其年代而它的原始成本是關(guān)鍵因素晶圓沾污量該公司的一個(gè)部門經(jīng)理例如，抽油煙機(jī)和再循環(huán)系統(tǒng)，”以前加工100mm晶圓雙極模擬設(shè)備。 ?

?

兩步清洗：??

? 當(dāng)時(shí)設(shè)計(jì)了RCA清潔，1965年RCA的使用，五年后公開審理。?這兩步清潔是一種氧化和絡(luò)合的治療。?它使用H202 - NHIOH和Hz02 - HC1水溶液在75-80°C下攪拌10分鐘。從化學(xué)角度來說，它現(xiàn)在起作用了一個(gè)顧問，因?yàn)镠202在高pH值是一種強(qiáng)氧化劑，會(huì)破壞有機(jī)污染物，并分解了H20 + 02。?NH40H是強(qiáng)絡(luò)合劑對(duì)很多金屬。此外,用鹽酸H202形成可溶鋁、鉀和金屬鹽。

補(bǔ)償法????略

減少浪費(fèi)??略

二氧化碳排放???略