晶圓表面的親水性與疏水性，一個很容易被人忽視的細節(jié)，可能影響到整個芯片的性能。從制備光刻膠涂層，到清洗過程，再到某些薄膜的制備，晶圓表面的濕潤性影響著每一個關(guān)鍵步驟。今天將深入探討這兩種表面特性，解析其在半導(dǎo)體制程中的作用，以及如何通過各種表面處理方法來優(yōu)化晶圓的親水性和疏水性。

什么是親水性與疏水性？

親水性：親水性表面是指當水滴接觸到晶圓表面時，形成的接觸角小于90度。親水性的表面對水具有親和力，水能在晶圓表面蔓延成為一小灘水。

疏水性：
疏水性表面則是指當水滴接觸到表面時，形成的接觸角大于90度。即在晶圓表面形成水珠，典型的疏水性例子是荷葉上的水珠。

親水與疏水的原理

晶圓表面的親水性和疏水性主要與其表面化學(xué)基團有關(guān)。化學(xué)基團決定了表面對水分子的吸引力強弱，也就決定了其親水性或疏水性。
親水性表面，其上的化學(xué)基團更愿意與水分子進行相互作用而形成氫鍵。在這樣的表面上，水可以很好地鋪展開來，形成一個較低的接觸角。

相反，疏水性表面則不愿與水分子進行相互作用。這種表面上的化學(xué)基團更傾向于與自身進行相互作用，而排斥水分子。因此，水滴在這種表面上會形成較高的接觸角，看起來像一個半球形。

親水性與疏水性對半導(dǎo)體制程的影響

清洗工序：晶圓在各種工藝步驟之間都需要經(jīng)過清洗，以去除雜質(zhì)和殘留物。親水性表面能更好地與清洗液接觸，從而實現(xiàn)更有效的清洗。相反，疏水性表面會使清洗液在其上形成珠狀液滴，使得清洗效果不佳。

光刻步驟：光刻膠需要均勻地覆蓋在晶圓表面上，形成一層薄膜。親水性表面可以幫助光刻膠更好地鋪展，從而實現(xiàn)更均勻的光刻膠覆蓋。相反，疏水性表面的光刻膠影響勻膠的均勻性，也會降低光刻膠與晶圓之間的粘附力。

晶圓如何改性？
等離子改性：等離子體處理是一種常用的方法，利用氣體等離子體對晶圓表面進行改性，生成親水性或疏水性表面。例如，氧氣等離子體處理可以使硅表面產(chǎn)生親水性，而氫氣等離子體處理則可以產(chǎn)生疏水性表面。

化學(xué)改性：使用化學(xué)試劑處理晶圓表面。例如，在半導(dǎo)體制程中，表面活性劑可以用來改變晶圓表面的親水性和疏水性。表面活性劑可以吸附在晶圓表面，形成疏水基或親水基。如果希望增強晶圓表面的疏水性，可以使用含有非極性疏水尾基團的表面活性劑。如果希望增強晶圓表面的親水性，可以使用含有極性親水頭基團的表面活性劑。

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