SU-8光刻膠在近紫外光(365nm-400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形;它還具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性;在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián)，是一種化學(xué)擴(kuò)大負(fù)性膠，可以形成臺(tái)階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形;在電鍍時(shí)可以直接作為絕緣體使用。

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SU-8具有分子量低、溶解度好、透明度高、可形成光滑膜層、玻璃化溫度（Tg）低、粘度可降低、單次旋涂可得超厚膜層（650μm）、?涂層厚度均勻、高寬比大（10:1）、?耐化學(xué)性優(yōu)異、生物相容性好（微流控芯片）的特點(diǎn)。

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光刻膠AR-N 4240

光刻膠AR-N 4340

光刻膠AR-N 4400

SU-8 2000 永久性環(huán)氧負(fù)性光刻膠

AR-P617 電子束光刻膠

電子束及深紫外光刻膠ma-N 2400系列

電子束光刻膠 CABL-9000C?

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瑞禧WFF.2022.6