SEM/EDS介紹

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掃描電子顯微鏡(SEM)是用細聚焦的高能電子束轟擊試樣表面，通過電子與試樣相互作用產生的二次電子、背散射電子信息對試樣表面或斷口進行微區(qū)形貌及結構的觀察 。現(xiàn)在的SEM一般都與EDS組合，利用EDS進行元素成分定性、定量分析；可應用于材料高分辨成像、電子產品如PCB板/FPC、半導體，光電材料、通訊行業(yè)材料形貌/腐蝕/微污染分析，微區(qū)元素打點分析/特定元素沿深度方向的線掃描，元素的面分布。

掃描電子顯微鏡的原理是依據(jù)電子與物質的相互作用。 當一束高能的入射電子轟擊物質表面時，被激發(fā)的區(qū)域將產生二次電子、X光信號、背散射電子、透射電子， 以及在可見、 紫外、 紅外光區(qū)域產生的電磁輻射。根據(jù)信號強度組成形貌照片，能高倍率觀察表面外觀形貌。 原則上講，利用電子和物質的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息。

能譜儀的工作原理:探頭接受特征X射線信號→把特征X射線光信號轉變成具有不同高度的電脈沖信號→放大器放大信號→多道脈沖分析器把代表不同能量(波長)X 射線的脈沖信號按高度編入 不同頻道→在熒光屏上顯示譜線→利用計算機進行定性和定量計算。能譜儀通常作為掃描電子顯微鏡的附屬配件，搭配掃描電子顯微鏡使用。

通過掃描電子顯微鏡和搭配使用的能譜儀，可以用來觀測芯片內部層次和測量各層厚度、觀測并拍攝局部異常照片和測量異常尺寸、測量芯片關鍵尺寸線寬和孔徑、定性和定量分析異常污 染物的化學元素組成。

SEM/EDS分析手段————————————————————————————————————————————————————

主要用于無機材料微結構與微區(qū)組成的分析和研究，儀器的功能包括：

（1）電子衍射：選區(qū)衍射、微束衍射、會聚束衍射；

（2）成像：明場像（BF）、暗場像（DF）、衍射像、高分辨像(HREM)、掃描透射像，環(huán)角暗場像（HAADF）；

（3）微區(qū)成分：EDS能譜的點、線和面分析；

SEM/EDS應用范圍

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（1）材料范圍：除磁性材料之外的任何無機材料，包括粉體、薄膜和塊材；不適用于有機和生物材料。

（2）表征范圍：微觀形貌、顆粒尺寸、微區(qū)組成、元素分布、元素價態(tài)和化學鍵、晶體結構、相組成、結構缺陷、晶界結構和組成等。

送樣須知

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粉末樣品基本要求

? ? （1）單顆粉末尺寸最好小于1μm；

? ? （2）無磁性；

? ? （3）以無機成分為主，否則會造成電鏡嚴重的污染，高壓跳掉，甚至擊壞高壓槍；

塊狀樣品基本要求

? ?（1）需要電解減薄或離子減薄，獲得幾十納米的薄區(qū)才能觀察；

? ?（2）如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等機械方法制成粉末來觀察；

? ?（3）無磁性；