六西格瑪DMAIC項目分析（A）階段的主要任務(wù)是分析哪些自變量X對項目指標(biāo)大Y或小y有顯著影響。我們通過數(shù)據(jù)分析建立模型后，接下來就要尋找X的最優(yōu)設(shè)置，以期達(dá)到提升良率、減小Y的波動等目的。

在此過程中，你有沒有遇到過以下問題：

• 多個Y同時優(yōu)化，顧此失彼，按下葫蘆浮起瓢，魚與熊掌不能兼得？

• 哪組參數(shù)才是最好的？反復(fù)嘗試，精疲力竭而不得其解？

• 如何確定因子的公差范圍和設(shè)計空間，使得輸出滿足顧客的要求？

對于以上種種難題，都可以使用JMP的「刻畫器」輕松搞定。

2023年1月5日19:30-20:30，新年第一場JMP線上研討會，六西格瑪咨詢顧問李濤林將針對以上令人頭疼的種種難題，分享在六西格瑪項目在分析階段的重要工具 —— JMP刻畫器的強(qiáng)大功能及應(yīng)用。歡迎對工藝參數(shù)優(yōu)化與改進(jìn)感興趣的工程師朋友報名參會。

刻畫器是一種用于與模型進(jìn)行交互的動態(tài)工具，可以幫助分析人員以交互式的可視化方式探索響應(yīng)曲面。在JMP軟件中，不管是用歷史數(shù)據(jù)擬合模型，還是用DOE數(shù)據(jù)擬合模型，抑或使用類似于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)等工具進(jìn)行預(yù)測建模，都可以使用刻畫器對因子進(jìn)行刻畫。而且在擬合模型時無論是存儲預(yù)測公式，或者手工編輯公式，都可以使用刻畫器。

憑借良好的交互性和可視化，JMP讓因子刻畫形象直觀，更方便對因子的重要性進(jìn)行分析，進(jìn)而輕松地優(yōu)化參數(shù)，達(dá)到提高合格率、穩(wěn)健輸出等目的。在2022年10月最新發(fā)布的JMP 17版本中新增的設(shè)計刻畫器，讓確定因子的公差和設(shè)計空間變得前所未有的輕松與簡便。

在課程中，將學(xué)些什么？

1. 什么是因子刻畫？

2. 刻畫器

單個Y的因子刻畫

多個Y的因子刻畫

含噪聲因子的因子刻畫

模擬器

缺陷參數(shù)刻畫器

設(shè)計空間刻畫器

3. 等高線刻畫器

單個Y的等高線刻畫器

多個Y的等高線刻畫器

哪些人適合參加？

從事質(zhì)量管理、工藝改善、流程改進(jìn)、六西格瑪管理、統(tǒng)計質(zhì)量管理等工作的工程師、科研人員、部門經(jīng)理；以及工程技術(shù)與管理類的學(xué)校師生

立即報名，參與學(xué)習(xí):

https://www.jmp.com/zh_cn/events/live-webinars/non-series/2023-01-05.html?utm_campaign=wcl7015b0000057lw6AAAA&utm_source=bilibili&utm_medium=social

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