一、專利申請文件

1.外觀設(shè)計(jì)專利

申請外觀設(shè)計(jì)專利應(yīng)提交請求書、該外觀設(shè)計(jì)的圖片或者照片以及對該外觀設(shè)計(jì)的簡要說明等文件。申請人提交的有關(guān)圖片或者照片應(yīng)當(dāng)清楚地顯示要求專利保護(hù)的產(chǎn)品的外觀設(shè)計(jì)。

2.發(fā)明專利或?qū)嵱眯滦蛯＠?/p>

申請發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯＠麘?yīng)提交請求書、說明書及其摘要和權(quán)利要求書等文件。

（1）請求書應(yīng)當(dāng)寫明發(fā)明或者實(shí)用新型的名稱，發(fā)明人的姓名，申請人姓名或者名稱、地址，以及其他事項(xiàng)。

（2）說明書應(yīng)當(dāng)對發(fā)明或者實(shí)用新型作出清楚、完整的說明，以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)；必要時(shí)，應(yīng)當(dāng)有附圖。

（3）摘要應(yīng)當(dāng)簡要說明發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)要點(diǎn)。

（4）權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護(hù)的范圍。

依賴遺傳資源完成的發(fā)明創(chuàng)造，申請人應(yīng)當(dāng)在專利申請文件中說明該遺傳資源的直接來源和原始來源；申請人無法說明原始來源的，應(yīng)當(dāng)陳述理由。

二、專利撰寫技巧

1.考慮適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)范圍、侵權(quán)判定

適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)范圍就是說，在符合我國專利法及其實(shí)施細(xì)則的前提下，盡可能獲得較大的保護(hù)范圍。

撰寫專利申請文件要多從有利于侵權(quán)判定的角度考慮。比如，基于全面覆蓋原則，在最初撰寫專利申請文件時(shí)，只需要將能夠解決本發(fā)明所涉及到的必要的技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求中，非必要技術(shù)特征往往會(huì)限制縮小保護(hù)范圍。在現(xiàn)實(shí)生活中，發(fā)明名稱、使用環(huán)境特征、以制備方法界定產(chǎn)品的技術(shù)特征、方法權(quán)利要求的步驟順序等，都有可能限制縮小專利權(quán)的保護(hù)范圍，因此在使用時(shí)要考慮清楚。另外，如果權(quán)利要求中存在可能有歧義的術(shù)語且在說明書中并未加以解釋，也有可能影響對后續(xù)權(quán)利要求的解釋。

2.考慮是否有利于取證維權(quán)

如果專利申請人從事的是產(chǎn)品生產(chǎn)業(yè)務(wù)，那么從侵權(quán)賠償?shù)慕嵌葋砜?，專利申請文件的撰寫以抵御產(chǎn)品生產(chǎn)商為主會(huì)對權(quán)利人更加有利。因?yàn)榍謾?quán)產(chǎn)品銷售商、進(jìn)口商以及使用者比較容易證明侵權(quán)產(chǎn)品的合法來源。在這種情形下，撰寫產(chǎn)品以及產(chǎn)品的制備方法權(quán)利要求較為有利。

3.撰寫交底材料時(shí)要繁簡得當(dāng)

在改寫過于復(fù)雜和過于簡單的交底材料時(shí)，應(yīng)做到繁簡得當(dāng)。對過于復(fù)雜的交底材料進(jìn)行篩選能夠做出合理的刪改，省去其中沒有必要甚至不適合寫入專利申請文件中的內(nèi)容，只保留核心技術(shù)方案和足夠重要的補(bǔ)充改進(jìn)，使專利申請文件變得更加清晰簡明，也減輕代理人的工作量。對過于簡單或過于空泛的交底材料能夠做出合理的細(xì)化、補(bǔ)充及擴(kuò)展，讓專利申請文件的內(nèi)涵更豐富，獲得更高的授權(quán)可能和更完善的保護(hù)范圍。

4.注意專利不能輕易被競爭對手規(guī)避

專利代理人應(yīng)當(dāng)與申請人一起拓展有可能實(shí)現(xiàn)的改進(jìn)方案亦或是變劣技術(shù)方案。改進(jìn)的技術(shù)方案可以作為專利審查階段的“退路”，并且可以有效地阻止競爭對手將改進(jìn)方案提交專利申請。根據(jù)北京市人民法院出臺的《專利侵權(quán)判定指南》，變劣技術(shù)方案不構(gòu)成等同侵權(quán)，因此在撰寫專利申請文件時(shí)也應(yīng)對變劣技術(shù)方案一并考慮。