氮化硼納米片有甚多制取方式。化學(xué)氣相沉積法、生物學(xué)脫離法、低能球磨法與橫波降解法等方式均能制得規(guī)格較小的納米片。左右方式均在必須水平上制取了氮化硼納米片，可是制取的納米片易造成團(tuán)圓，且納米片表層具備較強(qiáng)的惰性簡(jiǎn)述疏流平性。

與此同時(shí)，再用機(jī)誡脫離法制取氮化硼納米片時(shí)，選定的分散液對(duì)氮化硼納米片剝離作用有挺大的危害，采用似水、異丙醇、無(wú)水乙醇、N,N-二甲基甲酰胺、十二烷基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰胺等分散化溶劑對(duì)h-BN機(jī)誡脫離均能制得納米片，但制取的氮化硼納米片易發(fā)生團(tuán)聚、保證細(xì)化情況速度快、產(chǎn)率低，因而有損氮化硼納米片的規(guī)模性工業(yè)化生產(chǎn)、存儲(chǔ)和運(yùn)用。

目前制備二維材料納米片的方法大致可分為兩類：“自下而上”法和“自上而下”法。前者包括化學(xué)氣相沉積法和外延生長(zhǎng)法等，它們都可以制備高質(zhì)量的二維納米材料，但同時(shí)對(duì)二維材料的生長(zhǎng)環(huán)境要求極高（高溫高壓）并且所得到的納米片尺寸受基板尺寸限制，另外從基板上進(jìn)行轉(zhuǎn)移時(shí)也會(huì)對(duì)納米片的質(zhì)量和性能帶來(lái)嚴(yán)重?fù)p失。因此“自上而下”法，也就是剝離法，也成為了氮化硼納米片的主力合成方法之一。

氮化硼納米片作為一種先進(jìn)的納米材料和陶瓷材料，氮化硼納米材料以其優(yōu)秀的物理和化學(xué)性能受到了各個(gè)領(lǐng)域的青睞，在光電、環(huán)保及日化等領(lǐng)域也必將發(fā)揮更重要的作用。我們需要在已有的研究和應(yīng)用基礎(chǔ)上，開拓思路，實(shí)現(xiàn)氮化硼納米材料的大規(guī)模、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠、零污染合成，促進(jìn)廣泛應(yīng)用。