鉭靶材

用途：主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜和光學(xué)鍍膜。

純度：99.95%～99.99%。

牌號(hào)：RO5200

規(guī)格：方靶材，厚度x寬度x長(zhǎng)度=5～25x≤800x≤2000

圓靶材，厚度x直徑=5～25x≤Φ800

常規(guī)靶材尺寸

6.0*127*475

6.0*127*1193

6.35*127*685.8

6.35*120.6*377.8

8.0*320*100

?101*6.0

?152.4*6.0

?255.6*6.0

鉭蒸發(fā)鍍膜材料

常規(guī)尺寸：Φ3*3，Φ6*6,也可以按照客戶要求定做

晶粒度：再結(jié)晶程度≥98%，平均晶粒度<100μm，晶粒分布均勻，無(wú)分層現(xiàn)象。可根據(jù)用戶特殊要求，晶?？煽刂圃?0~80um

平面度≤0.2mm。

表面粗糙度<1.6μm。