IK4171I-G氦鎘激光器442nm 180mW氦鎘光源日本KIMMON
供應(yīng)日本KIMMON氦鎘激光器IK4171I-G?He-Cd激光器IK4171I-G?氦鎘光源IK4171I-G
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氦鎘(He-Cd)激光器是一種氣體激光器,激光輻射波長(zhǎng)在325nm到550nm之間,其工作氣體為氦和鎘蒸汽。氦鎘激光器的工作原理是利用氦原子與電子碰撞產(chǎn)生激發(fā)態(tài)氦原子,然后激發(fā)態(tài)氦原子再與鎘原子碰撞達(dá)到鎘原子的激發(fā)態(tài),最終達(dá)到激發(fā)態(tài)的鎘原子通過(guò)受激輻射躍遷放出波長(zhǎng)為325nm到550nm的激光。
KIMMON為您提供高質(zhì)量和先進(jìn)的He-Cd氦鎘激光器。
325nm氦鎘光源
IK3023R-BR IK3052R-BR IK3031R-C IK3072R-C IK3083R-D IK3101R-D IK3202R-D IK3151R-E ?IK3252R-E IK3201R-F IK3401R-F IK3452R-F IK3301R-G IK3501R-G IK3552R-G IK3802R-G ?IK3102R-G
442nm氦鎘光源
IK4123R-B IK4153R-C IK4151R-C IK4401R-D IK4601R-E IK4101R-F IK4171I-G IK4121R-G IK4131I-G
雙波長(zhǎng)442/325nm氦鎘光源
IK5351R-D IK5352R-D IK5451R-E IK5452R-E IK5551R-F IK5552R-F IK5651R-G IK5652R-G ??IK5751I-G IK5752I-G
He-Cd氦鎘光源可用于各種應(yīng)用
拉曼光譜是一種無(wú)損的分析技術(shù),它是基于光和材料的相互作用而產(chǎn)生的。拉曼光譜可以提供樣品化學(xué)結(jié)構(gòu)、相和形態(tài)、結(jié)晶度及分子相互作用的詳細(xì)信息。
光致發(fā)光,是指光的能量或光子激發(fā)出新的光子的發(fā)射。 它是一種非接觸式、無(wú)損測(cè)量的方法。本質(zhì)上講,激發(fā)光子到達(dá)樣品被吸收,發(fā)生光激發(fā)的過(guò)程。光激發(fā)使電子躍遷到激發(fā)態(tài),然后通過(guò)振動(dòng)弛豫返回到較低的能級(jí)時(shí)釋放能量(光子)。
全息攝影是一種使用光學(xué)干涉圖案的“成像”技術(shù)。干擾
通過(guò)干擾物體光束和參考光束產(chǎn)生的圖案記錄在膠片上。
并且薄膜被參考光照射,然后產(chǎn)生三維圖像。
激光直接成像,是利用激光直接成像原理將線路圖像以激光束的形式直接投射在涂有光致抗蝕劑的線路板上從而實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移的一種技術(shù)。
多光通量干涉曝光設(shè)備


