如何提高Vray渲染速度(二)
上次我們分析了模型因素、材質因素和燈光因素對Vray渲染速度的影響,這次我們來分析渲染設置是如何影響渲染時間的,一起來看看吧。
Vray渲染器的速度與抗鋸齒、全局光引擎和QMC采樣器這三個設置有關。
一、抗鋸齒
Vray渲染器為我們提供了3種不同的圖像采樣器抗鋸齒方式,“抗鋸齒采樣”是采樣和過濾的一種算法,它會產生最終的像素組來完成圖像的渲染。嚴格來說,無論采用哪種采樣方式都會增加渲染時間,因此我們要考慮的是針對不同情況、不同場景使用不同的圖像采樣器抗鋸齒來有效節(jié)約渲染時間。
固定圖像采樣器:這個采樣器對于每個像素使用固定數(shù)量的樣本,如果是具有大量模糊特效或高細節(jié)的紋理貼圖場景,使用固定圖像采樣器是兼顧圖像品質和渲染時間的最好選擇。
自適應細分圖像采樣器:對于沒有Vray模糊特效直接GI、景深、運動模糊等的場景,使用這個采用器是最好的選擇,這個采樣器幾乎可以適用于所有場景,是平衡時間和渲染品質的較好選擇。
自適應準蒙特卡洛圖像采樣器:這個采樣器根據(jù)每個像素和它相鄰像素的亮度差異產生不同數(shù)量樣本,需要說明的是,此采樣器沒有自身的極限控制值,它受“Vray:rQMC采樣器”中“噪波閾值”的制約,因此不可分開來看。當一個場景具有高細節(jié)的紋理貼圖或大量幾何學細節(jié)而只有少量模糊特效的時候,特別是這個場景需要渲染動畫時,使用這個采樣器是不錯的選擇。
除了以上3種"圖像采樣器"外,Vray還提供了多達14種的“抗鋸齒過濾器”,選擇不同的“抗鋸齒過濾器”對渲染速度也會有一定影響。
二、全局光引擎
Vray提供了不同的全局光引擎以便用戶在首次反彈和二次反彈中配合使用,在室內商業(yè)效果圖制作中,使用發(fā)光貼圖配合燈光緩沖是取得渲染時間與圖像品質平衡的最好選擇。
在首次反彈中,倍增器的值決定場景照明中首次漫射反彈的效果,增加這個值可以使渲染的圖像更明亮,同時也會增加渲染時間。需要注意的是,默認1.0就可以得到很好的效果,其他數(shù)值可能會造成計算結果不準確。
在二次反彈中,倍增器的值決定場景照明中二次漫射反彈的效果,增加這個值可以使渲染的圖像更明亮,同時也會増加渲染時間,具體數(shù)值是多少需要根據(jù)實際情況酌情使用,看場景而定。
模型細分決定GI樣本品質,較大的值可以得到平滑圖像效果,但渲染時間會增加,較小的值雖然速度快,不過也可能產生黑斑,這個值受“Vray:rQMC采樣器”的制約。
插補采樣用于定義插值計算的GI樣本數(shù)量,較大的值會得到平滑圖像效果,模糊GI的細分,也會增加渲染時間,較小的值會產生更光滑的細節(jié),但同時也可能產生黑斑。
另外在“Vray:燈光緩沖”卷展欄中,細分數(shù)值決定有多少條來自攝影機的路徑被追蹤,較高的值會增加渲染時間,不過計算結果也更準確。
三、QMC采樣器
QMC就是"準蒙特卡洛”采樣器,它就像Vray的大腦,貫穿于Vray的每一種”模糊"評估中,抗鋸齒、景深、間接照明、面積燈光、模糊反/折射、半透明以及運動模糊等,QMC采樣一般用于確定是什么樣的樣本,以及最終哪些樣本被光線追蹤。