觀看B站UP主：MUTO老木頭

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本文是根據(jù)上面的UP主的講解，本人自己一步一步跟著學(xué)習(xí)所記錄筆記。軟件采用的是2019R1??ANSYS Electronics Desktop

筆記鏈接

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提取碼：7aug

一、磁芯模型建立

1.?????? 創(chuàng)建一個(gè)工程，然后更改名字。

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1.?????? 給工程添加一個(gè)3D的仿真。

2.?????? 查閱資料《飛磁磁芯數(shù)據(jù)手冊(cè)》，找到EI33磁芯（本案例所使用的），需要根據(jù)上面的尺寸進(jìn)行三維圖形的繪制。

3.?????? 調(diào)整方向

4.?????? 繪制一個(gè)矩形

5.?????? 修改尺寸

6.?????? 選中，復(fù)制一份，直接用快捷鍵Ctrl+C? Ctrl+V

7.?????? 調(diào)整復(fù)制出的位置，同樣雙擊，然后在屬性窗口填入數(shù)據(jù)

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8.?????? 繪制中間的磁芯柱，隨便繪制一個(gè)矩形，然后修改參數(shù)屬性如下

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9.?????? 立柱的繪制，通過拉伸。先調(diào)整角度

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10.?? 繪制引導(dǎo)線（用于確定拉伸的方向及長(zhǎng)短）

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11.?? 根據(jù)尺寸，調(diào)整線的位置

12.?? 將Polyline1復(fù)制一份，作為中間立柱的引導(dǎo)線，修改參數(shù)

13.?? 將Polyline1再?gòu)?fù)制一份，作為右邊立柱的引導(dǎo)線，修改參數(shù)

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14.?? 引導(dǎo)線效果展示

15.?? 拉伸操作1，選中要拉伸的面，點(diǎn)擊上面的拉伸操作

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16.?? 拉伸操作2，選擇拉伸方向。先選中，之前繪制的拉伸引導(dǎo)線的底部，

17.?? 拉伸操作3，再選擇引導(dǎo)線的頂部

18.?? 點(diǎn)擊右側(cè)窗口，ok。點(diǎn)擊繪制的空白處，會(huì)取消選中，拉伸的物體由粉色變成綠色。

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19.?? 重復(fù)第一個(gè)的拉伸步驟，拉伸另外兩個(gè)。然后保存。

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20.?? 選擇右邊兩個(gè)，進(jìn)行隱藏

21.?? 調(diào)整視角，先選中繪制的面為ZX，然后調(diào)整角度。

22.?? 繪制矩形框

23.?? 調(diào)整參數(shù)

24.?? 之前不小心將線隱藏了，現(xiàn)在將隱藏的線顯示出來，并且調(diào)整繪制的面為XY

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25.?? 調(diào)整角度，然后拉伸。（此時(shí)不用繪制引導(dǎo)線，因?yàn)榭梢越柚袄L制的線或圖形），選中要拉伸的面，點(diǎn)擊拉伸操作，然后方向安裝下面的藍(lán)色箭頭操作。

26.?? 點(diǎn)擊左側(cè)的OK

27.?? 將之前隱藏的立柱顯示

28.?? 刪除之前繪制拉伸時(shí)候所用到的引導(dǎo)線，三條線都刪除

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29.?? 選中全部，然后組合。

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30.?? 繪制EI磁芯的“I”磁芯部分，繪制一個(gè)矩形。

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31.?? 調(diào)整參數(shù)

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32.?? 拉伸（操作同上面提到的一樣）

33.?? 給每個(gè)部分命名

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34.?? 最后效果

二、繞組模型建立（兩種方法）

方法一（等效截面積方法）

1.?????? 繪制矩形

2.?????? 調(diào)整參數(shù)

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3.?????? 調(diào)整角度，準(zhǔn)備繪制繞組的拉伸軌跡。

4.?????? 拉伸軌跡繪制

5.?????? 截面選擇，繞Z軸

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6.?????? 沿線復(fù)制，選擇要復(fù)制的面，選擇沿線復(fù)制，方向?yàn)榫G色剪頭方向，點(diǎn)擊OK

7.?????? 同樣的沿線復(fù)制操作

8.?????? 調(diào)整位置，將矩形都移動(dòng)到角上

9.?????? 重復(fù)步驟6,7,8將圖像繪制成如下效果

10.?? 拉伸

11.?? 重復(fù)步驟10，拉伸其余的部分。結(jié)果如下

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12.?? 隱藏E磁芯，刪除中間的矩形區(qū)域

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13.?? 聯(lián)合

14.?? 重命名為“coil

15.?? 最終效果

方法二（使用體積相減的操作）L_Test2

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1.?????? 初始設(shè)置。YZ面繪制，隱藏I磁芯，角度為Button(z)

2.?????? 繪制一個(gè)長(zhǎng)方體

3.?????? 調(diào)整長(zhǎng)方體參數(shù)

4.?????? 作減法，先選中coil后選中磁芯E，注意勾選。

5.?????? 結(jié)果展示（這里繪制的繞組和磁芯之間沒有空隙，需要調(diào)整）

三、激勵(lì)截面繪制

1.?????? 界面初始化。隱藏EI磁芯。

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2.?????? 選擇需要?jiǎng)?chuàng)建截面積的截面。右鍵——Edit——Surface——Section

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3.?????? 右鍵分離（激勵(lì)面只需要一個(gè)，這兩個(gè)目前是一個(gè)整體，所以需要分離）

4.?????? 刪除其中一個(gè)（只需要一個(gè)激勵(lì)面）

5.?????? 最終效果

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四、添加材料

1.?????? 右鍵添加材料

2.?????? 輸入copper，找到列表copper

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3.?????? 設(shè)置磁芯材料

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4.?????? 結(jié)果展示

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五、邊界繪制及激勵(lì)添加

1.?????? 繪制邊界條件。求解區(qū)域。這里設(shè)計(jì)的比較小，越大求解速度越慢，計(jì)算量越大。

2.?????? 進(jìn)行規(guī)則檢查，發(fā)現(xiàn)有錯(cuò)誤。因?yàn)闆]有添加激勵(lì)。

3.?????? 添加激勵(lì)。選擇需要添加激勵(lì)的面，然后右鍵，如下

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4.?????? 設(shè)置analysis setup solution。采用默認(rèn)值

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六、校驗(yàn)和仿真

1.?????? 規(guī)則檢查（校驗(yàn)）

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2.?????? 仿真電腦設(shè)置（貌似可以利用更多的電腦算力進(jìn)行仿真，加快仿真速度），我這破電腦沒有，，，，尷尬。放一張視頻教程的圖

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3.?????? 進(jìn)行仿真

4.?????? 仿真結(jié)果

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七、仿真結(jié)果查看

1.?????? 點(diǎn)擊result——solution data

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2.?????? 查看場(chǎng)。選擇磁芯EI，右鍵

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3.?????? 選擇需要觀看的部位，然后點(diǎn)擊Done

4.?????? 畫面調(diào)整，然磁通的線密集些，更容易看清磁通的分布。

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5.?????? 雙擊，然后選擇Marker/Arrow，調(diào)整矢量的坐標(biāo)和箭頭的粗細(xì)。

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6.?????? 密度的調(diào)整

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八、電感矩陣仿真及結(jié)果查看

1.?????? 添加矩陣

2.?????? 勾選上電流源

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3.?????? 驗(yàn)證

4.?????? 仿真（右下角的progress有綠色的進(jìn)度條，就說明開始在仿真了）

5.?????? 結(jié)果查看

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6.?????? 繞組電流密度觀察

7.?????? 雙擊，可以更改樣式

8.?????? 最終結(jié)果

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END