中國電子專用設備工業(yè)協(xié)會理事長、北方華創(chuàng)董事長趙晉榮先生在日前的半導體設備年會上指出，我國設備企業(yè)近幾年在刻蝕、薄膜、清洗、注入、CMP及封裝測試等關鍵設備方面所取得的重要進步，與核心零部件廠商的技術(shù)攻堅是密不可分的。上海復享光學股份有限公司（以下簡稱“復享光學”）就是其中一個典型代表，他們在本屆設備年會上也展示了面向半導體前道制程檢測工藝的全新光譜檢測方案，吸引了業(yè)界同仁及各方觀眾前來參觀交流。

深耕光譜技術(shù)：從Lab走向Fab

隨著集成電路支撐先進工藝的不斷提升和新興光電子芯片應用的興起，晶元制造工藝的量檢測需求日益凸顯。光學衍射極限的存在使得成像技術(shù)難以滿足產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求，光譜分析技術(shù)已存在于各類微納制造與量檢測設備之中，成為支撐集成電路和光電子芯片產(chǎn)業(yè)制造工藝的關鍵技術(shù)之一。

復享光學大客戶經(jīng)理方源博士在受邀采訪時指出，復享光學是一家快速成長的高新技術(shù)企業(yè)，是中國先進光譜技術(shù)的領導者。作為國內(nèi)微納光學領域的頭部企業(yè)，復享光學提供芯片制程工藝控制中各類光譜模組及量檢測解決方案。

值得一提的是，復享光學于2019年獲批成立“上海微納制程智能檢測工程技術(shù)研究中心”，這是國內(nèi)首個在半導體領域開展微納制程光學量檢測技術(shù)研究的應用平臺，致力于攻關微納制造產(chǎn)業(yè)中更為前沿的共性關鍵技術(shù)與工藝問題。

“在發(fā)展早期，公司一直服務于包括高校和科研機構(gòu)在內(nèi)的所謂‘Labs’市場。在與這些高要求客戶共同發(fā)展過程中，復享光學積累了深厚的技術(shù)根基以及對深度光譜技術(shù)的了解?！狈皆床┦恐赋觯斑M入最近幾年，隨著半導體行業(yè)成為焦點，我們也將深度光譜技術(shù)的應用延伸到半導體設備領域，這也成為了我們當前的主要發(fā)力方向之一”。

?據(jù)介紹，在半導體制造領域，有非常多的場景會用到等離子體技術(shù)原理，復享光學利用其發(fā)光特性，借助公司的光譜檢測設備以及自主研發(fā)的配套軟件和算法去接收這些光的信息并對其進行分析，實現(xiàn)更好的監(jiān)控和檢測，從而實現(xiàn)良率的提升。

?在本次設備年會上，復享光學產(chǎn)品市場經(jīng)理陸祺峰博士就針對這一技術(shù)原理做了題為“終點檢測在等離子體刻蝕工藝中的應用”的大會報告，針對性的闡述了除刻蝕設備以外，包括去膠設備、CMP設備、鍍膜設備（主要是PECVD）以及光源檢測中一些需要用到光譜技術(shù)的場景，以及復享光學深度光譜技術(shù)在半導體核心零部件細分市場的領先優(yōu)勢。

?當然，如文章開頭所說，夯實的技術(shù)基礎是復享光學的“底氣”。

提供解決方案：以硬件+算法多維度光譜分析技術(shù)應對深層次市場需求

復享光學的核心價值主張是做半導體設備領域的關鍵零部件優(yōu)秀供應商，在與行業(yè)聯(lián)系愈發(fā)緊密之后，頭部客戶不斷提出更嚴格的要求，不斷給與鼓勵，硬是把我們從一個模組廠商變成了解決方案廠商。方源博士稱，正是在行業(yè)需求的倒逼之下，復享光學實現(xiàn)了從硬件到解決方案的升級，對標國際領先同類廠商，不僅收獲了客戶的極大信任，也大幅提升了自身的能力?？偟膩碚f，復享光學面向半導體行業(yè)客戶主要做兩件事：在售前幫助做機臺的集成，在后續(xù)工藝的開發(fā)中提供全方位支持。

基于這樣的規(guī)劃，在本屆的半導體設備年會上，復享光學帶來了發(fā)射光譜終點檢測方案FX-OES、白光干涉終點檢測方案FX-IEP和在線膜厚檢測方案FilmKit，為客戶解決提升產(chǎn)品良率的痛點。

?1.發(fā)射光譜終點檢測方案FX-OES

發(fā)射光譜終點檢測方案FX-OES方面，據(jù)介紹，該方案配備了復享光學完全自主研發(fā)的OES BOX和ideaEPD工業(yè)軟件。具備復雜等離子體背景下弱信號動態(tài)采集、智能終點判斷算法等核心技術(shù)，除了能滿足常規(guī)Poly、SiNx、 OX、PR、Metal膜層的終點檢測需求外，也可對小開口率、大深寬比等場景下的微弱信號進行有效實時監(jiān)控。此外，整體方案還包含強大&可視化終點配置文件功能，可用于復雜條件判斷刻蝕等場景，而多層次歷史數(shù)據(jù)仿真優(yōu)化等模塊也能幫助工藝工程師大大提升工藝優(yōu)化的效率，最終幫助提升晶圓制造良率。

2.白光干涉終點檢測方案FX-IEP

白光干涉終點檢測方案FX-IEP是復享光學針對3D NAND臺階刻蝕、功率器件溝槽刻蝕和薄膜沉積等場景推出的一款產(chǎn)品，擁有<1%原位膜厚監(jiān)測精度，適用于高制程芯片制造過程的實時監(jiān)控；體積緊湊，方便大小機臺的在線集成；同時，該方案還能根據(jù)不同機臺的結(jié)構(gòu)定制高效率反射光路，以保障終點判斷的準確性；此外，復享光學還能為該方案提供定制模型算法，以適配不同的工藝場景。

3.在線膜厚檢測方案FilmKit

在線膜厚檢測方案FilmKit則是復享光學面向半導體設備需求提出的另一個解放方案，主要用于薄膜結(jié)構(gòu)的離線測量，具備高精度、非接觸、非破壞、快速檢測等特點；其配置也靈活，具備多種測試系統(tǒng)形態(tài)，能兼容不同膜厚測量場景，支持在線集成應用；又因為擁有數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫以及多種算法模型，該方案還涵蓋了目前絕大部分的光電材料；值得一提的是，該方案的核心算法還支持薄膜到厚膜，單層到多層薄膜分析。

方源博士表示，國產(chǎn)半導體設備行業(yè)難度大，要求高，需求深。復享光學為了滿足更加復雜的關鍵制程，匹配客戶的需求，在行業(yè)的高驅(qū)動下，復享光學的深度光譜技術(shù)已大部分取代傳統(tǒng)的光學技術(shù)，光學檢測的比重和精度都已大幅度提升，成為行業(yè)關注的焦點。復享光學的解決方案已經(jīng)在晶圓產(chǎn)線上實現(xiàn)了長期穩(wěn)定性驗證，從起量階段已經(jīng)進入到放量階段，帶著這份責任與使命，復享光學目前正在與客戶開發(fā)新的應用場景，以深度光譜技術(shù)解決不同應用場景的檢測訴求，以光譜硬科技匹配產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展。在方源博士看來，復享光學的產(chǎn)品研發(fā)實力和國外友商相比差距越來越小，差的只是國內(nèi)客戶的需求引導，以及對應用場景的認知差。而現(xiàn)在，這個屬于國產(chǎn)半導體設備零部件的機會窗口正在被徐徐打開。