單晶硅片生產(chǎn)工藝及產(chǎn)污環(huán)節(jié)：

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電子變壓器生產(chǎn)工藝及產(chǎn)污環(huán)節(jié)：

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印刷電路板生產(chǎn)工藝及產(chǎn)污環(huán)節(jié)：

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污染物處理工藝：

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華林科納所采購(gòu)刻蝕設(shè)備的客戶當(dāng)中，有的環(huán)保要求比較高，需要環(huán)保設(shè)備與刻蝕設(shè)備配套，進(jìn)行刻蝕當(dāng)中產(chǎn)生的污水處理，下面用含氟廢水工藝處理舉例：

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Ksp=2.7 x 10-10 常溫：

1、18℃時(shí)，CaF2在水中的溶解度為16.3mg/l，折合F-約為7.7mg/l

2、用石灰中和產(chǎn)生的CaF2沉淀是一種細(xì)微的結(jié)晶（大多數(shù)都小于3um），其沉降速度極為緩慢。

3、若廢水中含有如NaCl、Na2SO4、NH4Cl等一定數(shù)量的鹽類時(shí)，因?yàn)閺?qiáng)電解質(zhì)的鹽效應(yīng)，會(huì)增加CaF2的溶解度，降低了除氟效果。

4、鈣鹽沉淀法用于處理低氟濃度廢水效果不佳，主要是因?yàn)檎T導(dǎo)沉淀形成的晶核很難生成, 此時(shí)可采用加入新形成的CaF2 沉淀作為晶種，可增強(qiáng)除氟效果。

Ksp = [Ca2+]x[F-]2 = C：

1、實(shí)際投加過(guò)量石灰乳，即使pH>12，也只能使F-濃度降至15mg/l左右，且水中懸浮物含量很高。

2、在任何pH下，F(xiàn)-濃度均隨著Ca2+濃度的增加而降低；尤其在Ca2+過(guò)剩量小于50mg/l時(shí)。

3、因此在實(shí)際處理過(guò)程中，常常在已投加石灰處理的含氟廢水中加入另一種易溶鈣鹽如CaCl2等, 利用同離子效應(yīng)，使CaF2的溶解平衡和溶解度受到影響, 從而析出更多的CaF2沉淀。。

4、工程中可采用投加更多的Ca(OH)2與HCl反應(yīng)，生成CaCl2來(lái)實(shí)現(xiàn)同離子效應(yīng)。

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