《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》金屬腐蝕劑原理手冊
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》
文章:III-V的光子學(xué)特性
編號:JFKJ-21-221
作者:炬豐科技
介紹
? 在開發(fā)或制造任何金屬或金屬化合物時。在新開發(fā)的材料的研究中,制漿涉及到一個或多個步驟,最終的市場產(chǎn)品。這包括濕化學(xué)蝕刻液體溶液;干化學(xué)蝕刻電離氣體;固體金屬,如銅等具有活性劑;高溫熔劑;分子氣體,如氫燃燒時的分子氣體以及使用電流的電解溶液。磅是一個單獨的主題,在這本書中沒有涉及到任何程度,介紹了具有特殊性質(zhì)的表面制備和幾種鍍液。

電解格式??略
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