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正如某業(yè)內(nèi)人士表示，光刻機那么復雜的東西，做出來的產(chǎn)品一年全行業(yè)銷售額還不如小米一家賣手機銷售額的一半。等你萬一做出來了，ASML就可以降價打死你，你也就沒有研發(fā)下一代產(chǎn)品的本錢了。因此，在過去市場開放的年代，光刻機以前其實連試錯的機會都沒有。資本是逐利的，誰砸錢給你玩這個？但就是這么巧，美國硬是給國內(nèi)企業(yè)創(chuàng)造了這么個賺錢的機會。ASML沒法來競爭了。

而目前的這個進度，也已經(jīng)在荷蘭的預料之外，比如說，2022年同興達還在說光刻機要用日本的， 結果23年實際搬進來的是上海微電子的光刻機，當然是微米級的。

但另據(jù)光刻機行業(yè)人士透露，納米級早已研制出來了，只不過達不到10nm以內(nèi)。目前還需要時間，比如從驗收到真正商業(yè)化還需要3-5年；好消息是DUV目前看來只剩時間問題了。而且EUV和DUV是同步研發(fā)，兩者的時間間隔可能比預期短，就像原子彈和氫彈。