等離子清洗設(shè)備通過高頻高壓產(chǎn)生的粒子的組成和應(yīng)用?

如今工業(yè)與科技的飛速發(fā)展對材料的要求越來越高,這極大的帶動了材料表面改性技術(shù)的進步,其中,等離子清洗設(shè)備改性技術(shù)引人注目,等離子體作為物質(zhì)的第四態(tài),是指部分或電離的氣體,而等離子體是指在直流電弧放電、輝光放電、微波放電、電是放電、射頻放電等條件下所產(chǎn)生的部分電離氣體,在等離子體中包含有多種粒子,除了電離所產(chǎn)生的電子和離子以外,還有大量的中性粒子如原子、分子和自由基等,故粒子間的相互作用非常復(fù)雜,有電子·電子、電子-中性粒子、電子-離子、離子-離子、離子中性分子、中性分子-中性分子等。在這樣復(fù)雜的物理體系中,由于電子、離子、激發(fā)原子、自由基的存在且相互作用,常可完成在普通情況下難以完成的事。
等離子清洗設(shè)備在材料表面改性的方法大致可分為以下4種情況:等離子體表面蝕刻、表面接枝、粘結(jié)和氣相沉積。plasma在高分子材料、金屬材料,塑料材料、有機材料、聚合物材料、生物醫(yī)用材料及紡織材料等諸多不同類型的材料中有著廣泛的應(yīng)用,也有著明顯的應(yīng)用優(yōu)勢。
