書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章：半導(dǎo)體化學(xué)腐蝕參考文獻(xiàn)

編號(hào)：JFKJ-21-217

作者：炬豐科技

摘要 ?

? 綜述了III±V半導(dǎo)體化學(xué)蝕刻的相關(guān)文獻(xiàn)，以便組織引文對(duì)裝置和材料研究者有用的類別。?描述性引文按擬蝕刻分組 應(yīng)用和細(xì)分按特定的半導(dǎo)體濕法和干法蝕刻。?單獨(dú)的部分分組由各種化學(xué)成分作為蝕刻劑使用的引物，使對(duì)結(jié)果和問(wèn)題的看法得以廣泛訪問(wèn)。

介紹 ?

? 有大量關(guān)于蝕刻劑的文獻(xiàn)，但往往很難確定具體的位置 信息。?本參考指南的目的是指導(dǎo)III±V半導(dǎo)體器件 研究適合于特殊應(yīng)用的化學(xué)蝕刻劑，并提供描述有用的成果。

濕式蝕刻應(yīng)用程序

略

GaAs和AlGaAs中的InGaAs