高溫工藝

快速退火爐

管式退火爐TUBE

真空退火爐

離子注入機(jī)

快速高溫退火爐

鍵合工藝

晶圓鍵合機(jī)

晶圓解鍵合機(jī)

半自動(dòng)兆聲清洗機(jī)

臨時(shí)鍵合勻膠臺(tái)

臨時(shí)晶圓鍵合機(jī)

鍵合測(cè)試設(shè)備

半自動(dòng)8寸鍵合機(jī)

輔助測(cè)量

奧林巴斯顯微鏡

膜厚儀

紫外可見分光光度計(jì)

橢偏儀

探針臺(tái)

臺(tái)階儀

在線形貌測(cè)試儀-AFM

激光共聚焦顯微鏡

冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡-SEM

穆勒矩陣光譜橢偏儀

應(yīng)力儀

超聲波掃描顯微鏡

接觸式四探針方塊電阻測(cè)試儀

非接觸式方塊電阻測(cè)試儀

線寬掃描電鏡CDSEM

薄膜工藝

介質(zhì)磁控

金屬磁控

電子束蒸發(fā)

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

熱蒸發(fā)臺(tái)（高真空金屬熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)）

原子層沉積系統(tǒng)-ALD

低壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD - TEOS / 高溫氧化 / Poly Si / SIN）

電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積（ICPCVD）

物理氣相沉積設(shè)備（PVD）

雙槍電子束蒸發(fā)臺(tái)

濕法工藝

腐蝕臺(tái)

高溫腐蝕臺(tái)

清洗臺(tái)

電鍍臺(tái)Ni / 銅 / 錫

圖形工藝

HMDS涂膠機(jī)

顯影臺(tái)

勻膠臺(tái)通風(fēng)柜

等離子清洗機(jī)

晶圓旋干清洗機(jī)

南光光刻機(jī)

EVG光刻機(jī)

高溫?zé)o氧烘箱

雙倉潔凈烘箱

有機(jī)清洗臺(tái)

激光直寫

半自動(dòng)涂膠機(jī)

半自動(dòng)顯影機(jī)

步進(jìn)式光刻機(jī)

電子束曝光機(jī)

全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)

后道工藝

超聲引線儀

劃片機(jī)

減薄機(jī)

激光打標(biāo)機(jī)

光纖打標(biāo)機(jī)

推拉力測(cè)試儀

化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備（CMP）

激光隱形切割設(shè)備

激光劃片機(jī)

解理劃線機(jī)

解理劈裂機(jī)

全自動(dòng)裂片機(jī)

刻蝕工藝

深反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

等離子體去膠機(jī)

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕（ICP）

離子束刻蝕設(shè)備

離子束修調(diào)設(shè)備

埃德萬斯離子束刻蝕設(shè)備

HF/氟化氙氣相刻蝕機(jī)

反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備

深硅刻蝕機(jī)（ICP-05）