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光伏組件PID效應分析

2023-08-01 22:58 作者:宗棠V5  | 我要投稿

1.???? PID效應機制

????????電勢誘導衰減效應簡稱PID (Potential Induced Degradation。PID效應是常規(guī)帶邊框晶體硅光伏組件在工作過程中常見的一種衰減。

(1) P型晶硅組件PID效應

????????在光伏電站運作過程中,光伏組件的封裝EVA會隨著使用時間發(fā)生老化。其中在濕熱狀態(tài)下以氧化和水解為主要老化途徑,水解速度與工作環(huán)境濕度、天氣有關。潮濕、高溫的環(huán)境容易產(chǎn)生水蒸氣,水蒸氣通過組件封邊硅膠或背板進入組件內(nèi)部,使EVA老化水解后產(chǎn)生醋酸,醋酸與玻璃(鈉鈣玻璃)中的NaCO3等反應,析出Na+、 Ca+2離子。應安全要求組件邊框均需要接地,光伏電池與組件邊框之間則會產(chǎn)生電勢差。組件中電池串正極部分對邊框(大地)偏壓為正,負極部分對邊框偏壓則為負, 靠近兩端的地方,組件電池對邊框的偏壓較大。偏壓大小主要受電池串電壓影響,即組件中的電池串聯(lián)數(shù)。于是在組件工作過程中,組件負極端電池片產(chǎn)生一個由邊框和玻璃表面指向內(nèi)部電池片的電場。在該電場作用下,封裝材料中析出的Na+、Ca+2離子向著電池片表面漂移,穿過EVA并在電池片表面積累。積累在電池片表面的陽離子,會吸引電子并加速電子空穴的復合,使并聯(lián)電阻減小,內(nèi)部漏電流增大,降低組件的開路電壓Voc、填充影子FF,從而降低電池的輸出功率。由于PID效應中引起陽離子漂移的是邊框和電池之間的偏壓,因此PID衰減的產(chǎn)生部位大多先從組件內(nèi)靠近邊框的外側(cè)電池片開始。組件中產(chǎn)生PID衰減一般都是整片電池EL發(fā)黑,大多都以整個電池片為單位,都具有明顯的衰減界限。

圖1.組件邊框處漏電流示意圖

????????采用任何技術的P型晶硅電池片,組件在負偏壓下均有發(fā)生電勢誘導衰減的風險。因為光伏陣列的組件邊框通常都接地,造成單個組件和邊框之間形成偏壓,所以越靠近負極輸出端的組件承受負偏壓現(xiàn)象越明顯。

圖2.組件在陣列中的位置和偏壓形成的關系
圖3. PID衰減程度不同的光伏組件EL照片
圖4. P型晶硅組件有無PID衰I-V對比,F(xiàn)F有退化

????????電站實際運行中,PID衰減在帶邊框(鈉鈣玻璃、EVA膜)常規(guī)晶體硅組件中普遍存在,直流端系統(tǒng)電壓越高、濕度越大、溫度越高的環(huán)境PID衰減越嚴重。可以通過以下方法降低P型晶硅組件的PIOD效應:

A.???? 選用石英玻璃代替鈉鈣玻璃,去除Na+、Ca+2離子;

B.????? 使用雙玻無邊框組件避免邊框接地;

C.????? 使用復合邊框(尼龍、聚氨酯材料等);

D.???? 對EVA進行改進,或增大電池片表面氮化膜的致密度;

(2) N型晶硅組件PID效應

????????N型晶硅組件與P型晶硅組件結(jié)構不同,主要區(qū)別在于,N型晶硅組件正面為p+型硅,P型晶硅組件正面為n型硅。一些研究表明:N型晶硅組件的PID效應主要減少的參數(shù)是Isc和Voc,對FF基本沒有影響;N型晶硅組件的PID效應不再是遷移的離子(Na+、 Ca+2)引起的,而是由于光伏電池與組件邊框之間電勢差引起的鈍化層的電介質(zhì)極化導致,因此可以通過引入具有較高電導率和較低介電常數(shù)的鈍化層可以防止N型晶硅組件的PID效應。

圖5. N型晶硅組件PID效應機理示意圖
圖6.N型晶硅組件有無PID衰I-V對比,FF沒有退化

2.???PERC光伏電池PID效應分析

????????PERC組件目前主要采用常規(guī)有邊框方式(鋁邊框),屬于P型晶硅電池,因此PID效應不可避免;

3.? ?Top-CON光伏電池PID效應分析

圖7. TOPCon電池圖

????????TOPCon 技術基于N-PERT 電池結(jié)構,屬于N型晶硅電池,依然采用了SIN4鈍化材料,以某組件廠生產(chǎn)的HD144N-470W的N-TOPCon 組件為例,該組件采用了常規(guī)有邊框方式,因此PID效應不可避免;

4.? ?HIT光伏電池PID效應分析

圖8. HJT電池原理圖

????????HJT(Heterojunction Technology)是一種N型單晶雙面電池,HJT電池結(jié)構與PERC和TOPCon完全不同,首先在N型單晶硅片(c-Si)的正面沉積很薄的本征非晶硅薄膜(i-a-Si:H)和p型非晶硅薄膜(p-a-Si:H),然后在硅片的背面沉積很薄的本征非晶硅薄膜(i-a-Si:H)和n型非晶硅薄膜(n-a-Si:H)形成背表面場;鈍化層采用透明氧化物導電薄膜(TCO),代替SiN4,在高壓偏壓條件下,不存在積累電荷的絕緣層,因此不會產(chǎn)生PID現(xiàn)象。因此HJT電池具有抗PID的潛力。


參考文獻:

[1] 朱宏靜. 單晶硅電池轉(zhuǎn)換效率及光伏組件PID效應的分析[D]. 2017.

[2] 薛鴻斐 .晶體硅光伏組件功率衰減機制研究[D],2018

[3] Soohyun Bae, et al. Potential induced degradation of n-type crystalline silicon solar cells with p+ front junction[J].2016

[4] Luo W , Khoo Y S , Hacke P , et al. Potential-induced Degradation in Photovoltaic Modules: A Critical Review[J]. Energy & Environmental ence, 2016, 10(1).


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