光刻機(jī)和蝕刻機(jī)都是在生產(chǎn)現(xiàn)代大規(guī)模集成電路（芯片就是）過(guò)程中必不可少的設(shè)備，兩者之間差別比較大，且聽(tīng)我細(xì)細(xì)講來(lái)。

什么是光刻機(jī)？什么是蝕刻機(jī)？

最通俗的說(shuō)法，所謂的大規(guī)模集成電路就是把我們正常看到的電路變得很小、很密集，所以說(shuō)我們正?？吹降淖詈?jiǎn)單的電路和芯片里面復(fù)雜而密集的電路沒(méi)有本質(zhì)的區(qū)別。

但是，在這個(gè)讓電路變得很小、很密集的過(guò)程中我們遇到了一個(gè)很嚴(yán)重的問(wèn)題，那就是簡(jiǎn)單的電路我們可以用手搭，但是那么小的電路我們?cè)趺创钇饋?lái)呢？

于是在長(zhǎng)期的探索中，科學(xué)家就找到了兩種物質(zhì)：一種我們比較熟悉——金屬，另一種是光刻膠。這兩種物質(zhì)有什么奇特的地方呢？又跟芯片制造有什么關(guān)系呢？

簡(jiǎn)單說(shuō)，光刻膠可以被光侵蝕掉，但是化學(xué)物質(zhì)沒(méi)法侵蝕掉它；金屬不會(huì)被光侵蝕掉，而化學(xué)物質(zhì)卻可以侵蝕掉它。（雖然現(xiàn)在最先進(jìn)的是用等離子蝕刻，但是我們這里先不說(shuō)那個(gè)，說(shuō)比較基礎(chǔ)一點(diǎn)兒的原理）

所以說(shuō)制造芯片的基本原理就是利用這兩種物質(zhì)的性質(zhì)：在金屬表面覆蓋一層光刻膠，然后用光先把光刻膠侵蝕掉，下一步再用化學(xué)物質(zhì)浸泡，這樣有光刻膠的那部分金屬就不會(huì)被侵蝕、沒(méi)有光刻膠的地方會(huì)被侵蝕掉——于是金屬表面就形成了我們想要的形狀。

這兩個(gè)過(guò)程就是所謂的光刻和蝕刻，對(duì)應(yīng)的設(shè)備就是光刻機(jī)和蝕刻機(jī)。

電路的形狀一開(kāi)始是畫在一張比較大的分劃板上的，然后通過(guò)透鏡把電路的圖案縮的很小，然后照射在涂抹了光刻膠的金屬板上（就是所謂的晶圓了）。

沒(méi)有光刻膠的那部分金屬在化學(xué)物質(zhì)的作用下被溶解了，然后晶圓表面就變成了我們想要的形狀。

那么中國(guó)現(xiàn)在兩種設(shè)備的發(fā)展如何？

其實(shí)從剛剛的大規(guī)模集成電路的制造過(guò)程上我們也看到了，光刻的復(fù)雜程度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于蝕刻，所以光刻機(jī)的復(fù)雜程度也遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于蝕刻機(jī)?，F(xiàn)在世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)制造商是荷蘭的ASML，可以說(shuō)是僅此一家、別無(wú)分號(hào)（占有80%的市場(chǎng)份額），一臺(tái)最先進(jìn)的光刻機(jī)售價(jià)一億美元，而且還不接受討價(jià)還價(jià)，你愛(ài)買不買。

而在現(xiàn)在這個(gè)時(shí)間節(jié)點(diǎn)上，ASML使用的光線已經(jīng)到了極紫外光（EUV），所以可以光刻7nm以下的大規(guī)模集成電路。而受制于《瓦森納協(xié)定》，ASML不可以向中國(guó)出售先進(jìn)光刻機(jī)。所以在這方面中國(guó)長(zhǎng)期處于被封鎖的狀態(tài)。

那么中國(guó)自己的光刻機(jī)是什么水平呢？非常遺憾的是，中國(guó)的光刻機(jī)水平落后世界很多，目前能夠量產(chǎn)的光刻機(jī)只能夠光刻90nm的大規(guī)模集成電路，跟最先進(jìn)的設(shè)備差距可以說(shuō)是極大的。也許試驗(yàn)室里有更高制程的光刻機(jī)技術(shù)，但是在量產(chǎn)、投入生產(chǎn)之前還只是鏡花水月。

相對(duì)而言，中國(guó)在蝕刻機(jī)方面做的相對(duì)較好，現(xiàn)在中國(guó)最先進(jìn)的等離子蝕刻機(jī)已經(jīng)制造到了5nm的制程，并且7nm制程的蝕刻機(jī)已經(jīng)在去年走出試驗(yàn)室，開(kāi)始向臺(tái)積電等廠商供貨，這方面中國(guó)已經(jīng)是世界頂尖水平。

所以，在光刻機(jī)的路上我們還有很遠(yuǎn)的路要走，任重而道遠(yuǎn)我們還不能盲目樂(lè)觀，光刻機(jī)與西方的技術(shù)水平還很大，在蝕刻機(jī)的路上還要再接再厲。

小資料：現(xiàn)在世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭的ASML公司，最小到10納米。臺(tái)積電買的都是它的光刻機(jī)。ASML公司實(shí)際上是美國(guó)、荷蘭、德國(guó)等多個(gè)國(guó)家技術(shù)合作的結(jié)果。因?yàn)檫@方面的研究難度太大，單個(gè)國(guó)家完成不了。除了ASML，世界上只有我們還在高端光刻機(jī)上努力研發(fā)。