按我國規(guī)定，權(quán)利要求書是申請(qǐng)發(fā)明專利的和申請(qǐng)實(shí)用新型專利的必須提交的申請(qǐng)文件。它是發(fā)明或者實(shí)用新型專利要求保護(hù)的內(nèi)容，具有直接的法律效力，是申請(qǐng)專利的核心，也是確定專利保護(hù)范圍的重要法律文件。那它應(yīng)該怎么寫？

1.步驟一：確定核心區(qū)別技術(shù)特征和關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)

權(quán)利要求書撰寫7步法的第一個(gè)步驟需要完成兩件事情：是根據(jù)與現(xiàn)有技術(shù)相比較獲得的最核心的區(qū)別技術(shù)特征，并用一句話概括；以及找出最具有創(chuàng)造性的關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)。

第一步是最為關(guān)鍵的步驟，這一步驟需要確定權(quán)利要求撰寫的兩個(gè)關(guān)鍵內(nèi)容問題，即核心區(qū)別特征和關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)。

在撰寫權(quán)利要求中，我們的要求是“頂天立地”。

所謂天，就是盡可能獲得的最大的保護(hù)范圍；頂天，就是要求獨(dú)立權(quán)利要求能夠盡可能的展開到這個(gè)可能的最大的保護(hù)范圍。申請(qǐng)專利的目的，當(dāng)然是要保護(hù)自己的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，但權(quán)利的范圍并不是有了技術(shù)方案就可以確定的，而是要依賴撰寫人的充分思考，抽象概括后確定的，撰寫質(zhì)量好的文件能夠使申請(qǐng)人獲得遠(yuǎn)超預(yù)期的保護(hù)范圍，增加侵權(quán)訴訟的力度；而撰寫質(zhì)量不佳的文件，則會(huì)極大的減少保護(hù)范圍，甚至使權(quán)利保護(hù)事實(shí)上成為泡影。專利申請(qǐng)的技術(shù)性在這一點(diǎn)上得到最充分的體現(xiàn)。

所謂地，就是盡可能獲得專利授權(quán)，或者保證專利能夠順利通過無效程序。立地，就是要針對(duì)撰寫過程中并不知曉、但審查員審查時(shí)可能檢索到的現(xiàn)有技術(shù)，保障申請(qǐng)文件最終能夠獲得授權(quán)。對(duì)于撰寫人而言，撰寫時(shí)盡管可能經(jīng)過簡單的檢索，但是所付出的時(shí)間以及檢索的環(huán)境、檢索經(jīng)驗(yàn)，都不可能與專利審查員相比，更不要說面對(duì)無效過程中的無休止不計(jì)成本的檢索過程了。所以，在撰寫時(shí)，撰寫人實(shí)際上需要面對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的“迷霧”，如何盡可能增加授權(quán)可能性，就成為撰寫的核心問題。

如果將權(quán)利要求撰寫比喻為和審查員討價(jià)還價(jià)的過程，則頂天的要求，就像是賣方第一次出價(jià)，要價(jià)要高而合理；立地的要求，就是賣方期望的最后保底價(jià)，這個(gè)保底價(jià)實(shí)際上就是要能夠成交即可，對(duì)于大多數(shù)權(quán)利人而言，獲得專利授權(quán)，即使范圍很小也是有意義的。

如何確定一個(gè)技術(shù)方案的最大的保護(hù)范圍呢？其關(guān)鍵還是找到與最接近現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別技術(shù)特征。這個(gè)區(qū)別技術(shù)特征找到了，則獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫方向就有了依據(jù)。

所謂最核心區(qū)別特征，就是能夠使本技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)相互區(qū)別、并且又能夠使該待申請(qǐng)的技術(shù)方案保護(hù)范圍最大的技術(shù)特征。從理想來說，這個(gè)技術(shù)特征是恰好能夠站在待申請(qǐng)技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)的邊界上，并清晰的表明待申請(qǐng)技術(shù)站在邊界的這一邊的特征。

在核心區(qū)別技術(shù)特征確定后，還要確定關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)。

關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)是該技術(shù)方案的具體實(shí)施方式中，需要特別關(guān)注的技術(shù)特征；該技術(shù)特征與核心區(qū)別特征不同，它不是該技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)的邊界，而是該技術(shù)方案的優(yōu)選實(shí)施方式中解決了關(guān)鍵技術(shù)難點(diǎn)的技術(shù)特征，或者是構(gòu)思最巧妙、最難被本領(lǐng)域技術(shù)人員想到的技術(shù)特征；或者是使該技術(shù)方案具有顯著特點(diǎn)的一個(gè)技術(shù)點(diǎn)。關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)很可能不只有一個(gè)，因?yàn)橐粋€(gè)技術(shù)方案可能存在多個(gè)技術(shù)難點(diǎn)。另外，在一些改進(jìn)較小的技術(shù)方案中，很可能出現(xiàn)關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)和核心區(qū)別特征高度重合的情況。

找出關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)的意義在于為權(quán)利要求的布置提供方向，關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)應(yīng)該在從屬權(quán)利要求中進(jìn)行重點(diǎn)的分層次布置。

2.步驟二，確定最小技術(shù)特征集，構(gòu)造核心獨(dú)立權(quán)利要求

權(quán)利要求書撰寫7步法的第二步，需要根據(jù)上述步驟一確定的核心區(qū)別特征，構(gòu)造最小技術(shù)特征集，根據(jù)最小技術(shù)特征集組成核心獨(dú)立權(quán)利要求。

核心區(qū)別特征確定為一句話后，還需要為其構(gòu)造最小技術(shù)特征集。這是由于，權(quán)利要求必須是一個(gè)完整的技術(shù)方案，而核心區(qū)別技術(shù)特征的“一句話描述”，抓住的是希望形成的這個(gè)完整的技術(shù)方案的核心，它突出體現(xiàn)該技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)之間的區(qū)別技術(shù)特征；但顯然這句話并非完整的技術(shù)方案。為此，需要以“一句話描述”為中心，展開完整的技術(shù)方案。

我們知道，一個(gè)完整的技術(shù)方案包含很多技術(shù)特征，首先要做的，就是把體現(xiàn)核心區(qū)別特征的完整技術(shù)方案的必不可少的技術(shù)特征均找到，在這一步中，絕對(duì)不能引入一些并非必須的技術(shù)特征；所以，這些技術(shù)特征組成的技術(shù)特征集被稱為“最小技術(shù)特征集”。

最小技術(shù)特征集和核心獨(dú)立權(quán)利要求的形成是相互促進(jìn)的。完全可能首先從對(duì)核心區(qū)別特征的“一句話描述”開始，考慮核心獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫，反過來確定最小技術(shù)特征集。但是，最小技術(shù)特征集的形成仍然是有必要的，因?yàn)椋@個(gè)形成過程明顯促進(jìn)了對(duì)核心獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫或者審核，可以有效的避免引入不必要的技術(shù)特征，以及保證同樣的事物采用同樣的名稱描述，避免不清楚的問題。

3.步驟三，審定核心權(quán)利要求的技術(shù)主題

上述核心權(quán)利要求確定后，反過來可以確定核心權(quán)利要求的技術(shù)主題。因?yàn)?，原來的技術(shù)主題是在形成該核心權(quán)利要求前就形成的。該技術(shù)主題沒有考慮核心權(quán)利要求包含的所有技術(shù)特征可能擴(kuò)展的范圍，很可能，原先的技術(shù)主題會(huì)過窄或者過寬。當(dāng)然，一般是過窄。

另外，審定技術(shù)主題過程中，也可能出現(xiàn)原先技術(shù)主題過寬需要收窄的可能，這在申請(qǐng)實(shí)用新型時(shí)更有可能，因?yàn)閷彶閱T評(píng)價(jià)發(fā)明和實(shí)用新型的創(chuàng)造性時(shí)，可以考慮的技術(shù)領(lǐng)域有差別。發(fā)明可以考慮的對(duì)比技術(shù)的技術(shù)領(lǐng)域更寬，縮小其技術(shù)領(lǐng)域?qū)μ嵘l(fā)明創(chuàng)造性的意義不大，而實(shí)用新型可以考慮的對(duì)比技術(shù)的技術(shù)領(lǐng)域比較窄，對(duì)實(shí)用新型有時(shí)有一定意義。因此，對(duì)不同的申請(qǐng)類型，其技術(shù)主題的寬窄考慮也不同。

4.步驟四，校對(duì)核實(shí)核心獨(dú)立權(quán)利要求

上述審定技術(shù)主題的過程完成后，需要在新的技術(shù)主題下，考慮原先初步撰寫的核心獨(dú)立權(quán)利要求中的一些技術(shù)特征在新的技術(shù)主題下是否合適；乘此機(jī)會(huì)，還需要進(jìn)一步思考該核心獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)特征是否可以刪減和上位，這些問題在最初形成過程中已經(jīng)做了考慮，但是，再一次思考往往能夠檢查出新的問題。核心權(quán)利要求是權(quán)利要求撰寫的重中之重，反復(fù)考慮也是非常必要的。

5.步驟五，分層次布置從屬權(quán)利要求

布置從屬權(quán)利要求的工作非常復(fù)雜。在此提出兩個(gè)重點(diǎn)：

1、第一步確定的關(guān)鍵技術(shù)特征是從屬權(quán)利要求的重點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)通過從屬權(quán)利要求逐層落實(shí)；

2、要記住每一個(gè)從屬權(quán)利要求都是一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，引用某一個(gè)權(quán)利要求只是簡化的寫法，在思考時(shí)、在語言組織時(shí)，都應(yīng)當(dāng)把被引用的權(quán)利要求的內(nèi)容以假想的方式完全代入，以此展開對(duì)從屬權(quán)利要求的撰寫。

6.步驟六，撰寫其它權(quán)利要求組

本步驟要求，在上述核心權(quán)利要求組已經(jīng)完成的情況下，根據(jù)產(chǎn)業(yè)鏈原則、對(duì)應(yīng)原則、單邊權(quán)利要求等原則，撰寫其它權(quán)利要求組。

上述撰寫的核心獨(dú)立權(quán)利要求及其從屬權(quán)利要求構(gòu)成核心權(quán)利要求組，提出核心權(quán)利要求組的概念，是因?yàn)槟壳耙呀?jīng)廣泛采用多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求的寫法，相應(yīng)產(chǎn)生多個(gè)權(quán)利要求組。在這種寫法下，有若干個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求，這些獨(dú)立權(quán)利要求各自與其從屬權(quán)利要求形成權(quán)利要求組。上述獨(dú)立權(quán)利要求一般并不處于等同地位，權(quán)利要求1一般最重要，稱為核心獨(dú)立權(quán)利要求，而其他的獨(dú)立權(quán)利要求是次要獨(dú)立權(quán)利要求；相應(yīng)的，核心獨(dú)立權(quán)利要求所形成的權(quán)利要求組稱為核心權(quán)利要求組，其它獨(dú)立權(quán)利要求形成的權(quán)利要求組稱為次要權(quán)利要求組。

撰寫次要權(quán)利要求組的一個(gè)首要原因，是為了侵權(quán)訴訟的便利。這種情況一般稱為根據(jù)產(chǎn)業(yè)鏈布局權(quán)利要求，簡稱產(chǎn)業(yè)鏈原則。

撰寫次要獨(dú)立權(quán)利要求組的另外一個(gè)重要原因，是為了獲得對(duì)應(yīng)的不同的專利類型以滿足一些國家的需要。這一撰寫原則稱為對(duì)應(yīng)原則。

撰寫次要獨(dú)立權(quán)利要求組的再一個(gè)重要原因，是構(gòu)造單邊權(quán)利要求，便于確定侵權(quán)者。這個(gè)原則稱為單邊權(quán)利要求原則。

在上述單邊權(quán)利要求原則下，核心權(quán)利要求組的內(nèi)容和其它權(quán)利要求組往往是對(duì)應(yīng)撰寫，地位上一般并沒有主次之分。但第一組權(quán)利要求的內(nèi)容基本上確定了后面的權(quán)項(xiàng)組的內(nèi)容，因此，第一組權(quán)利要求組仍然是主要的。

7.步驟七，進(jìn)行兩步整體審核

應(yīng)該說，整個(gè)專利申請(qǐng)文件的撰寫都需要反復(fù)審核。審核可以查缺補(bǔ)漏，對(duì)整個(gè)文件的完善起到非常關(guān)鍵的作用。好文章是改出來的，這一寫作經(jīng)驗(yàn)無疑也適用于專利文件的撰寫。我們提出兩步整體審核，實(shí)際上是將專利申請(qǐng)文件的審核過程固定化，使其成為不可整個(gè)撰寫過程的不可或缺的組成部分，避免被忽略。

兩步整體審核的第一步，是在權(quán)利要求全部撰寫完畢后的審核。

在該步驟中，首先需要重點(diǎn)考慮引用關(guān)系的審核，其次要重點(diǎn)考慮權(quán)利要求整體上是否把握了重點(diǎn)，即關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)。對(duì)關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)是否有足夠的權(quán)利要求，是否有逐層展開的合理層次；如果權(quán)利要求過多，需要考慮一些非重點(diǎn)的從屬權(quán)利要求是否屬于不能增加創(chuàng)造性的權(quán)利要求，是否可以刪除，而將省下的權(quán)利要求用于關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)的逐層展開上。

兩步整體審核的第二步，是在撰寫說明書的過程中的審核。撰寫說明書的過程中需要反復(fù)對(duì)照權(quán)利要求書撰寫。但需要對(duì)照權(quán)利要求書撰寫的重點(diǎn)位置有兩個(gè)，一個(gè)是發(fā)明內(nèi)容的技術(shù)效果部分，一個(gè)是實(shí)施方式部分。前者主要是考慮技術(shù)方案和技術(shù)效果要保持一致，后者主要考慮說明書對(duì)權(quán)利要求書的支持問題。在考慮上述問題的過程中，無疑會(huì)發(fā)現(xiàn)權(quán)利要求書中的一些問題可能會(huì)造成前后邏輯不一致或者無法充分支持等，需要對(duì)權(quán)利要求書進(jìn)行調(diào)整。說明書其它部分的撰寫當(dāng)然也要依據(jù)權(quán)利要求書，也可能發(fā)現(xiàn)權(quán)利要求書的問題，例如，撰寫背景技術(shù)，需要重點(diǎn)考慮核心獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案解決了什么技術(shù)問題，以此作為背景技術(shù)中技術(shù)問題提出的依據(jù)。當(dāng)然，撰寫說明書時(shí)，主要還是要利用已經(jīng)撰寫完成的權(quán)利要求書對(duì)說明書撰寫進(jìn)行指導(dǎo)，但上述反向的校對(duì)過程對(duì)于權(quán)利要求書獲得說明書的充分支持，以及矯正權(quán)利要求書的個(gè)別錯(cuò)誤也是非常重要的。由于這個(gè)步驟是在撰寫說明書的過程中順便完成的，可謂一舉兩得，不會(huì)另外占用過多的時(shí)間。

發(fā)明人自己申請(qǐng)專利經(jīng)常產(chǎn)生的質(zhì)量問題

小編認(rèn)為，發(fā)明人自己完全可以承擔(dān)專利申請(qǐng)的全流程工作，問題是只有極少數(shù)人既是發(fā)明人又是取得專利代理人資格的代理人，他們自己的發(fā)明由自己去申請(qǐng)專利，這當(dāng)然沒有問題的?；蛘甙l(fā)明人雖然沒有專利代理人資格，但是他們是多年從事專利管理、研究或者是知識(shí)產(chǎn)權(quán)法規(guī)研究和應(yīng)用的專業(yè)人員，而且還是對(duì)專利各項(xiàng)業(yè)務(wù)都非常熟悉的人員，這類人申請(qǐng)專利也完全可以自己承擔(dān)，但這樣的人為數(shù)不多。

更多的發(fā)明人對(duì)專利申請(qǐng)這一專業(yè)性強(qiáng)的工作并不完全清楚，他們自己去申請(qǐng)專利就會(huì)出現(xiàn)各種各樣本來并不應(yīng)當(dāng)出現(xiàn)的問題。即使他們自己申請(qǐng)的專利獲得授權(quán)，往往因創(chuàng)新技術(shù)含量不高、權(quán)利要求范圍太窄或沒有多少市場(chǎng)前景，其專利的實(shí)際質(zhì)量并不高。
　　發(fā)明人自己申請(qǐng)的專利暴露出來的質(zhì)量問題之一是：發(fā)明技術(shù)水平問題。有些發(fā)明人的發(fā)明的確是在工作或生活中碰到一個(gè)實(shí)際問題，然后通過努力，研發(fā)成功了。自我感覺良好，又擔(dān)心別人知道之后，會(huì)搶他一步先申請(qǐng)專利，于是，悄悄地趕快自己動(dòng)手申請(qǐng)了專利。有的可能獲得一個(gè)實(shí)用新型專利，但發(fā)明專利往往還是不易獲得的。當(dāng)然也有為數(shù)較少的發(fā)明，符合審查指南的要求，通過實(shí)審獲得授權(quán)。
　　不過，其中有的專利技術(shù)不符合其所在技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展方向，因而其實(shí)際技術(shù)應(yīng)用價(jià)值并不大。更多的是沒能通過審查的，原因是與他人已有的技術(shù)“撞車”了，重復(fù)別人的智力勞動(dòng)當(dāng)然不能獲得專利權(quán)了。這些發(fā)明人不懂得或者不會(huì)進(jìn)行技術(shù)查新、技術(shù)檢索，在不明確所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)背景這種情況下，重復(fù)他人勞動(dòng)也就難以避免，有的雖然沒有完全重復(fù)別人的技術(shù)，但相比較后就可以發(fā)現(xiàn)，其專利申請(qǐng)的創(chuàng)造性程度低，屬于名符其實(shí)的顯而易見，只會(huì)枉費(fèi)一番心血，非常遺憾。
　　發(fā)明人自己申請(qǐng)的專利暴露出來的質(zhì)量問題之二是：文件撰寫質(zhì)量問題。專利文件的撰寫是一件專業(yè)性很強(qiáng)的工作，有的發(fā)明人覺得這么難的發(fā)明我都搞出來了，寫個(gè)申請(qǐng)文件有啥難的，于是自己動(dòng)手撰寫申請(qǐng)文件?？墒牵捎谒麄冏珜懙貌粐?yán)謹(jǐn)、不規(guī)范，如在權(quán)利要求書中本不應(yīng)該出現(xiàn)的諸如“較長”“較高”“高溫”“大約”等等技術(shù)表述模糊不清的詞語也都出現(xiàn)在申請(qǐng)文件中了。
　　有的申請(qǐng)由于前期文件撰寫的種種缺陷，導(dǎo)致實(shí)審階段被一而再地縮小保護(hù)范圍，最后即使獲得授權(quán)，其專利的保護(hù)范圍太窄，有的可能僅僅是一個(gè)技術(shù)“點(diǎn)”而已，這種情況很不利于對(duì)競爭對(duì)象的技術(shù)限制。雖然獲得了授權(quán)，其專利質(zhì)量當(dāng)然也就不高了。
　　發(fā)明人自己申請(qǐng)的專利暴露出來的質(zhì)量問題之三是：技術(shù)與市場(chǎng)脫節(jié)的問題。許多發(fā)明人，特別是民間發(fā)明人，他們往往擁有許多專利技術(shù)，但沒有多少能夠轉(zhuǎn)讓得出去的，自己也沒有能力去實(shí)施，而且有的項(xiàng)目即使生產(chǎn)出來，也因缺乏市場(chǎng)需求而被市場(chǎng)淘汰。究其原因還是最初的專利申請(qǐng)定位不準(zhǔn)，沒有做相關(guān)的市場(chǎng)調(diào)研，或?qū)赡艿臐撛谑袌?chǎng)進(jìn)行分析評(píng)判，一廂情愿地閉門造車，往往是徒勞無益的。