產(chǎn)品名稱：氮化鋁(AlN)陶瓷基片，AlN半導(dǎo)體氮化鋁陶瓷，氮化鋁(AlN)陶瓷基片,AI 65.81%,N34.19%

氮化鋁（Aluminum Nitride，簡稱AlN）陶瓷基片是一種由氮化鋁材料制成的薄片或基板。AlN是一種優(yōu)良的陶瓷材料，具有高熱導(dǎo)率、優(yōu)異的電絕緣性能和良好的機(jī)械性能。

AlN陶瓷基片常用作電子器件和封裝材料的基底。由于其高熱導(dǎo)率和良好的絕緣性能，AlN基片可用于制備高功率電子器件和高頻電子器件，如功率放大器、射頻封裝、微波器件等。AlN基片還廣泛應(yīng)用于照明、電動汽車、電池散熱等領(lǐng)域。

AlN基片的制備通常采用熱壓燒結(jié)或化學(xué)氣相沉積等方法。通過粉末冶金工藝，在高溫和高壓下將AlN粉末形成塊體，再進(jìn)行切割和研磨，最終得到所需的薄片或基片形式。

AlN陶瓷基片具有一系列優(yōu)點(diǎn)，如優(yōu)異的機(jī)械強(qiáng)度、優(yōu)良的耐熱性、低熱膨脹系數(shù)、良好的化學(xué)穩(wěn)定性等。這使得它成為許多高溫電子器件和高功率器件的理想基底材料。

總之，AlN陶瓷基片是一種高性能的基底材料，具有廣泛的應(yīng)用前景。它可以在高溫、高功率和高頻率等特殊工況下提供優(yōu)異的性能和可靠性，因此在電子器件、封裝材料和其他相關(guān)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

產(chǎn)地：西安

規(guī)格：1mg 5mg 10mg

純度：99%

狀態(tài)：固體/粉末

儲藏條件：冷藏-20℃

溫馨提示：僅用于科研，不能用于人體實(shí)驗(yàn)！

說明：提供使用說明，核磁圖譜，包裝，價(jià)格，產(chǎn)地，制備方法，應(yīng)用，穩(wěn)定性，溶解度，簡單合成等各種信息

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編輯：XAQYBIO HAO，2023年7月14日。