【腦葉公司】自設(shè)異想體2——【本源晶?！?/h1>
基礎(chǔ)信息
異想體名稱：本源晶粒
異想體編號：O-03-117
傷害類型：物理（6-10）
危險等級：ALEPH
PE-BOX 產(chǎn)量
優(yōu)????27-33
良????12-26
差????0-16
喜好
等級????本能????洞察????溝通????壓迫
Ⅰ? ? ? ?極低????低????????極低????極低
Ⅱ???????極低????低????????極低????極低
Ⅲ???????極低????一般????極低????極低
Ⅳ???????極低????一般????極低????低
Ⅴ???????極低????一般????極低????一般
管理須知
Ⅰ.員工在進入“本源晶?！钡氖杖菔視r，會受到4倍的恐懼傷害
Ⅱ.謹慎級低于4級的員工完成了對“本源晶粒”的工作后，“本源晶粒”會直接突破收容。
Ⅲ.當日對“本源晶粒”完成過結(jié)果不為“優(yōu)”工作的員工會受到1.5倍的精神傷害
Ⅳ.當工作結(jié)果為“差”時，“本源晶?！钡挠嫈?shù)器會在倒計時結(jié)束后減少
敏感信息
逆卡巴拉計數(shù)器極值：2
物理 （1.5）?未知
精神 （0.5）?未知
侵蝕 （0.7）?未知
靈魂?（0.5）?未知
出逃信息
出逃的“本源晶粒”生命值為1800，在兩邊各擁有一塊“本源晶粒-1”。
“本源晶粒-1”會使對應方向的物理抗性-1.2，侵蝕抗性-0.7，“本源晶粒-1”在受到累計500點傷害后會消失20秒。
“本源晶?！庇袝r會將“本源晶粒-1”快速扔出，并對沿途所有單位造成200點物理傷害；被扔出的“本源晶粒-1”會在地面停留15秒并轉(zhuǎn)換為“本源晶粒-2”，期間每秒對所有經(jīng)過單位造成10-25點物理傷害，15秒后回收并為“本源晶?！被貜?0-100點生命值。
“本源晶?！笔軅麜r的走廊會生成“晶體碎屑”，對經(jīng)過的單位造成2-3點物理傷害，若“本源晶粒”處于出逃狀態(tài)，則對經(jīng)過的單位造成20點物理傷害，“晶體碎屑”在下一天到來前都不會消失。
出逃的“本源晶粒”
被扔出的“本源晶粒-1”
失去“本源晶粒-1”的“本源晶?！?br>
生成的“本源晶粒-2”
E.G.O武器：晶簇
·?等級：ALEPH
·?消耗：222 PE-BOX
·?可研發(fā)數(shù)量：1
·?裝備要求：勇氣V 謹慎V 等級V
·?屬性：物理
·?攻擊力：12-15
·?攻擊速度：快
·?攻擊距離：一般
資料：
※每對同一目標造成累計40點傷害時，追加25點精神傷害。
晶體十分的光滑，但反射不出任何物體，
晶石的交接處散發(fā)出滲入靈魂的光芒，
對于持有者而言，一把不可控的武器是極大的威脅。
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E.G.O武器：破損晶粒
·?等級：ALEPH
·?消耗：X?PE-BOX
·?可研發(fā)數(shù)量：不可研發(fā)
·?裝備要求：勇氣V 謹慎V 等級V
·?屬性：物理
·?攻擊力：6-7
·?攻擊速度：極快
·?攻擊距離：極遠
資料：
※每對目標造成累計40點傷害時，追加40點靈魂傷害。
※當員工死亡時，該E.G.O不會消失
武器不能被摧毀，因為它本就從未成型，
碎裂的武器仍可以被使用，
而最原始的形態(tài)反而有著更大的威脅。
（裝備E.G.O飾品“晶簇”并持有E.G.O武器“晶簇”的員工在鎮(zhèn)壓“本源晶粒”過程中死亡后獲得）
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E.G.O護甲：晶簇
·?等級：ALEPH
·?消耗：222?PE-BOX
·?可研發(fā)數(shù)量：1
·?裝備要求：自律V 謹慎V?等級V
·?物理 （0.4）?抗性較高
·?精神 （0.4）?抗性較高
·?侵蝕 （0.7）?抗性較高
·?靈魂 （0.5）?抗性較高
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資料：
※當員工本日首次精神值歸零時，不會陷入混亂并回復25%最大精神值
護甲上時常會出現(xiàn)一些小晶體，有著靜謐的顏色和冰冷的觸感，
無人知曉其的來源，但所有人們都知道，
本是這個世界的主人，現(xiàn)在無處可尋。
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E.G.O飾品：晶簇
·?獲得率：1%
·?位置：臉頰
·?最大精神值+7
·?成功率+4
·?精神值治療效果提高10%
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