第三代半導(dǎo)體SiC、GaN行業(yè)投資報告(附下載)
2021-08-12 11:49 作者:全行業(yè)報告圈 | 我要投稿
第809期
氮化鎵特性及發(fā)展歷史?
GaN的先天優(yōu)勢明顯:寬禁帶、高擊穿電壓、高頻、耐高溫、高功率密度
氮化鎵,分子式GaN,是氮和鎵的化合物;?
氮化鎵是寬禁帶材料,其禁帶寬度(3.4eV)是硅(1.1eV)的3倍,可制造高耐壓器件;?擊穿電場是硅材料的10倍,功率密度比砷化鎵器件高十倍,器件可小型化;
電子飽和漂移速度高,可制備高頻器件(300GHz),適用于5G以上通訊;熱導(dǎo)率大,更高的工作環(huán)境溫度(300℃以上),?在寬波譜、高功率、高效率的微電子、電力電子、光電子等器件方面有領(lǐng)先地位。

來源:品利基金
作者:佚名








































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